2024-03-29T11:08:07Z
https://met.misis.ru/jour/oai
oai:oai.mateltech.elpub.ru:article/521
2023-08-27T12:14:38Z
jour:%D0%9F%D0%9E%D0%9B%D0%A3
driver
"230705 2023 eng "
dc
Влияние технологических параметров при многопроволочной резке слитков GaAs на поверхностные характеристики пластин
Array, Array Array; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»
Array, Array Array; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»;
Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
Array, Array Array; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»;
Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
полупроводниковые монокристаллы; материалы электроники; многопроволочная резка; технологические параметры; параметры поверхности; полупроводниковые подложки; растровый электронный микроскоп
<p>Механическая обработка полупроводниковых монокристаллических слитков является одним из ключевых этапов в производстве пластин GaAs. Основной вопрос для получения качественных пластин — определение оптимальных параметров механической обработки, которое заключается в выявлении зависимостей качества поверхности подложек после резки от задаваемых при этом технологическом процессе параметров. Технология получения полированных полупроводниковых пластин (подложек) у практически всех полупроводниковых материалов схожая и имеет в своем различии только ряд отличительных черт, связанных с механическими и структурными особенностями отдельных материалов. Механическая обработка является первым после роста кристалла этапом, при котором необходимо соблюдать и совершенствовать множество технологических параметров для получения качественной готовой продукции. В технологическом процессе обработки полупроводника необходимо в первую очередь разделить кристалл на пластины со схожими поверхностными характеристиками. От качества этого разделения зависит то, какие пластины получатся в конечном итоге и насколько они будут пригодны как подложки для производства приборов при массовом производстве. Исследование влияния параметров резки на структуру нарушенного слоя и основных геометрических параметров пластин позволяет выявить оптимальные параметры механической резки и диапазон отклонений, возможный для получения пластин схожего качества для дальнейшей обработки.</p>
MISIS
2023-07-07 00:00:00
application/pdf
https://met.misis.ru/jour/article/view/521
Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 26, № 2 (2023)
ru
Авторы, публикующие статьи в данном журнале, соглашаются на следующее:Авторы сохраняют за собой автороские права и предоставляют журналу право первой публикации работы, которая по истечении 12 месяцев после публикации автоматически лицензируется на условиях Creative Commons Attribution License , которая позволяет другим распространять данную работу с обязательным сохранением ссылок на авторов оригинальной работы и оригинальную публикацию в этом журнале.Авторы имеют право размещать их работу в сети Интернет (например в институтском хранилище или персональном сайте) до и во время процесса рассмотрения ее данным журналом, так как это может привести к продуктивному обсуждению и большему количеству ссылок на данную работу (См. The Effect of Open Access).
oai:oai.mateltech.elpub.ru:article/220
2017-12-15T06:41:03Z
jour:%D0%A1%D0%A2
driver
"171213 2017 eng "
dc
ПОВЕРХНОСТНОЕ ДИПОЛЬНОЕ УПОРЯДОЧЕНИЕ СУБМИКРОННЫХ ПЛЕНОК ПОЛИДИФЕНИЛЕНФТАЛИДА
Array, Array Array; Башкирский государственный педагогический университет им. Акмуллы;
ФГБУ Уфимский научный центр РАН
Array, Array Array; Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»
Array, Array Array; Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»
Array, Array Array; Башкирский государственный педагогический университет им. Акмуллы
Array, Array Array; Башкирский государственный педагогический университет им. Акмуллы;
ФГБУ Уфимский научный центр РАН
Array, Array Array; Башкирский государственный педагогический университет им. Акмуллы
тонкие пленки; поверхность; поляризация; полидефиниленфталид; дипольное упорядочение