mateltechИзвестия высших учебных заведений. Материалы электронной техникиIzvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering1609-35772413-6387MISIS10.17073/1609-3577-2014-3-206-210mateltech-144Research ArticleФизические свойства и методы исследованияPHYSICAL CHARACTERISTICS AND THEIR STUDYМЕТОД ОПРЕДЕЛЕНИЯ НЕРАЗРУШАЮЩИХ РЕЖИМОВ ИМПУЛЬСНОГО ЛАЗЕРНОГО ОТЖИГА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИНMethod of Determining Nondestructive Pulse Laser Annealing Modes for Dielectric and Semiconductor WafersКоваленкоА. Ф.KovalenkoA. F.

доктор техн. наук, профессор 

Dr. Sci. (Eng.), Profrssor 

alexanderfkov@yandex.ruВоробьевА. А.VorobievA. A.

 кандидат техн. наук, начальник научно− исследовательской лаборатории 

Cand. Sci. (Eng.), Head of the Research Laboratory 

vorobievall@mail.ruВоенная академия Ракетных войск стратегического назначения им. Петра Великого, Китайгородский проезд, д. 9/5, Москва, 103074, РоссияРоссияPeter the Great Strategic Missile Forces Military Academy, 9/5 Kitaygorodsky proezd, Moscow 103074, RussiaRussian FederationВоенная академия Ракетных войск стратегического назначения им. Петра Великого, Китайгородский проезд, д. 9/5, Москва, 103074, РоссияРоссияPeter the Great Strategic Missile Forces Military Academy, 9/5 Kitaygorodsky proezd, Moscow 103074, RussiaRussian Federation20142606201503206210Copyright © Коваленко А.Ф., Воробьев А.А., 20152015Коваленко А.Ф., Воробьев А.А.Kovalenko A.F., Vorobiev A.A.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://met.misis.ru/jour/article/view/144

В рамках квазистатической несвязанной задачи термоупругости рассмотрен односторонний нагрев пластины со свободной поверхностью импульсным лазерным излучением. Получено аналитическое соотношение, являющееся критерием термопрочности пластины и позволяющее определять неразрушающие режимы лазерной обработки диэлектрических и полупроводниковых пластин. Модель расчета получена при допущении о независимости теплофизических, механических и оптических свойств материалов от температуры. Проведена экспериментальная проверка адекватности модели расчета, показавшая вполне удовлетворительное согласование расчетных и экспериментальных данных. 

Single−side heating of a wafer with a free surface by pulse laser annealing has been analyzed within a quasi-static uncoupled thermal elasticity problem. An analytical relationship has been obtained that can be used as a criterion of wafer thermal stability and helps determining nondestructive modes of pulse laser processing for dielectric and semiconductor wafers. A calculation model has been obtained in the assumption of temperature-independent thermophysical, mechanical and optical properties of the materials. An experimental verification of the adequacy of the calculation model has shown quite a satisfactory agreement between the calculation and experimental data. 

лазерная обработкапластинаквазистатическая задача термоупругостинеразрушающие режимыдиэлектрические и полупроводниковые материалы.laser processingwaferquasi-static thermal elasticity problemnondestructive modesdielectric and semiconductor materials.ReferencesГригорьянц, А. Г. Технологические процессы лазерной обработки / А. Г. Григорьянц, И. Н. Шиганов, А. И. Мисюров. − М. : Изд−во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2008. − 664 с.Григорьянц, А. Г. Технологические процессы лазерной обработки / А. Г. Григорьянц, И. Н. Шиганов, А. И. Мисюров. − М. : Изд−во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2008. − 664 с.Sarychev, A. Electrodynamics of metamaterials / A. Sarychev, V. Salaev. − NY: World Sci. Publ., 2007. − 247 p.Sarychev, A. Electrodynamics of metamaterials / A. Sarychev, V. Salaev. − NY: World Sci. Publ., 2007. − 247 p.Stepanov, A. L. Resent research development in applied physics / A. L. Stepanov, D. E. Hole. − Kuala (India): Transworld rescarch network, 2002. − P. 1—26.Stepanov, A. L. Resent research development in applied physics / A. L. Stepanov, D. E. Hole. − Kuala (India): Transworld rescarch network, 2002. − P. 1—26.Wood, R. A. Annealing of ion implanted silver colloids in glass / R. A. Wood, P. D. Townsend, N. D. Skelland, D. E. Hole, J. Barton, C. N. Afonso // J. Appl. Phys. − 1993. − V. 74. − P. 5754—5757.Wood, R. A. Annealing of ion implanted silver colloids in glass / R. A. Wood, P. D. Townsend, N. D. Skelland, D. E. Hole, J. Barton, C. N. Afonso // J. Appl. Phys. − 1993. − V. 74. − P. 5754—5757.Коваленко, А. Ф. Определение неразрушающих режимов термообработки диэлектрических и полупроводниковых пластин / А. Ф. Коваленко // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. − 2003. − No 2. − С. 39—42.Коваленко, А. Ф. Определение неразрушающих режимов термообработки диэлектрических и полупроводниковых пластин / А. Ф. Коваленко // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. − 2003. − No 2. − С. 39—42.Коваленко, А. Ф. Неразрушающие режимы импульсного лазерного отжига стеклянных и керамических пластин / А. Ф. Коваленко // Стекло и керамика. − 2006. − No 7. − С. 31—33.Коваленко, А. Ф. Неразрушающие режимы импульсного лазерного отжига стеклянных и керамических пластин / А. Ф. Коваленко // Стекло и керамика. − 2006. − No 7. − С. 31—33.Бакеев, А. А. Исследование термоупругих напряжений, возникающих в поглощающем слое вещества под действием лазерного импульса / А. А. Бакеев, А. П. Соболев, В. И. Яковлев // ПМТФ. − 1982. − No 6. − С. 92—98.Бакеев, А. А. Исследование термоупругих напряжений, возникающих в поглощающем слое вещества под действием лазерного импульса / А. А. Бакеев, А. П. Соболев, В. И. Яковлев // ПМТФ. − 1982. − No 6. − С. 92—98.Коваленко, А. Ф. Экспериментальная установка для исследования влияния параметров лазерного импульса на разрушение неметаллических материалов / А. Ф. Коваленко // Приборы и техника эксперимента. − 2004. − No 4. − С. 119—124.Коваленко, А. Ф. Экспериментальная установка для исследования влияния параметров лазерного импульса на разрушение неметаллических материалов / А. Ф. Коваленко // Приборы и техника эксперимента. − 2004. − No 4. − С. 119—124.Способ обработки неметаллических материалов. Пат. на изобретение. RUS 2211753. / В. М. Атаманюк, А. Ф. Коваленко, И. В. Левун, А. В. ФедичевСпособ обработки неметаллических материалов. Пат. на изобретение. RUS 2211753. / В. М. Атаманюк, А. Ф. Коваленко, И. В. Левун, А. В. ФедичевКоваленко, А. Д. Основы термоупругости / А. Д. Коваленко. − Киев : Наукова думка, 1970. − 240 с.Коваленко, А. Д. Основы термоупругости / А. Д. Коваленко. − Киев : Наукова думка, 1970. − 240 с.Феодосьев,В.И.Сопротивлениематериалов/В.И.Феодосьев. − М. : Наука, 1986. − 512 с.Феодосьев,В.И.Сопротивлениематериалов/В.И.Феодосьев. − М. : Наука, 1986. − 512 с.ГОСТ13659−88.Стеклооптическоебесцветное.Физико− химические характеристики. − М. : Изд−во стандартов, 1988. −48с.ГОСТ13659−88.Стеклооптическоебесцветное.Физико− химические характеристики. − М. : Изд−во стандартов, 1988. −48с.Блистанов,А.А.Акустическиекристаллы.Справочник / А. А. Блистанов, В. С. Бондаренко, Н. В. Переломова, Ф. Н. Стрижевская, В. В. Чкалова, М. П. Шаскольская − М. : Наука, 1982. − 632 с.Блистанов,А.А.Акустическиекристаллы.Справочник / А. А. Блистанов, В. С. Бондаренко, Н. В. Переломова, Ф. Н. Стрижевская, В. В. Чкалова, М. П. Шаскольская − М. : Наука, 1982. − 632 с.ГОСТ15130−86.Стеклокварцевоеоптическое.−М.:Изд− во стандартов, 1986. − 34 с.ГОСТ15130−86.Стеклокварцевоеоптическое.−М.:Изд− во стандартов, 1986. − 34 с.ГОСТ 9411−90. Стекло цветное оптическое. − М. : Изд−во стандартов, 1992. − 48 с.ГОСТ 9411−90. Стекло цветное оптическое. − М. : Изд−во стандартов, 1992. − 48 с.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.