<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">mateltech</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1609-3577</issn><issn pub-type="epub">2413-6387</issn><publisher><publisher-name>MISIS</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.17073/1609-3577-2019-2-84-91</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">mateltech-327</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Наноматериалы и нанотехнологии</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>NANOMATERIALS AND NANOTECHNOLOGY</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>О перспективе создания элементов памяти на основе наночастиц кремния</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>On the prospect of creating memory elements based on silicon nanoparticles</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Талызин</surname><given-names>И. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Talyzin</surname><given-names>I. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>ул. Желябова, д. 33, Тверь, 170100</p><p>Талызин Игорь Владимирович – канд. физ.-мат. наук, научный сотрудник Управления научных исследований</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Zhelyabova, 33, Tver, 170100</p><p>Igor V. Talyzin: Cand. Sci. (Phys.-Math.), Scientific Researcher</p></bio><email xlink:type="simple">talyzin_igor@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Самсонов</surname><given-names>В. М.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Samsonov</surname><given-names>V. M.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>ул. Желябова, д. 33, Тверь, 170100</p><p>Самсонов Владимир Михайлович — доктор физ.-мат. наук, профессор кафедры общей физики</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Zhelyabova, 33, Tver, 170100</p><p>Vladimir M. Samsonov: Dr. Sci. (Phys.-Math.), Professor</p></bio><email xlink:type="simple">samsonoff@inbox.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Тверской государственный университет</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Tver State University</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2019</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>09</day><month>12</month><year>2019</year></pub-date><volume>22</volume><issue>2</issue><fpage>84</fpage><lpage>91</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Талызин И.В., Самсонов В.М., 2019</copyright-statement><copyright-year>2019</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Талызин И.В., Самсонов В.М.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Talyzin I.V., Samsonov V.M.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://met.misis.ru/jour/article/view/327">https://met.misis.ru/jour/article/view/327</self-uri><abstract><p>Память, связанная с изменением фазового состояния (phase–change memory), основана на изменении оптических, электрических или иных свойств вещества при фазовом переходе, например переходе из аморфного состояния в кристаллическое. На сегодняшний день уже реализованные и потенциальные применения такой памяти связаны в первую очередь с использованием многокомпонентных сплавов на основе химических элементов, относящихся к металлам и полупроводникам. Однако однокомпонентные наночастицы, включая наночастицы Si, также представляют интерес в качестве перспективных наноразмерных элементов памяти. В частности, возможность создания таких элементов памяти подтверждается тем, что у объемной фазы аморфного кремния значение коэффициента оптического поглощения на порядок больше, чем у кристаллического. Разумеется, этот эффект затруднительно реализовать для отдельной наночастицы, размер которой не превышает длину волны света. В данной работе с использованием молекулярной динамики (МД) и потенциала Стиллинджера—Вебера исследованы закономерности плавления и условия кристаллизации наночастиц кремния, содержащих до 105 атомов. Показано, что при охлаждении нанокапель кремния со скоростью 0,2 ТК/с и выше имеет место их переход в аморфное состояние, тогда как однокомпонентные металлические нанокапли кристаллизуются в МД-экспериментах даже при скоростях охлаждения 1 ТК/с. При последующем нагреве аморфных наночастиц кремния, содержащих более 5 ∙ 104 атомов, происходит их кристаллизация в определенном температурном интервале от 1300 до 1400 К. Сделан вывод о принципиальной возможности создания элементов памяти, основанных на данных фазовых переходах. Переход наночастицы в аморфное состояние достигается путем ее плавления и последующего охлаждения до комнатной температуры со скоростью 0,2 ТК/с, а переключение в кристаллическое состояние — путем ее нагрева до 1300—1400 К со скоростью 0,2 ТК/с и последующего охлаждения. На основе результатов МД-экспериментов сделан вывод о существовании минимального размера наночастиц кремния, ниже которого при заданной скорости изменения температуры создание элементов памяти, основанных на изменении фазового состояния, становится принципиально невозможным. Установлено, что для скорости изменения температуры 0,2 ТК/с такой минимальный размер составляет 12,4 нм (число атомов — порядка 5 ∙ 104 атомов).</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>Phase-change memory is based on a change in the optical, electrical, or other properties of a substance during a phase transition, for example, transition from the amorphous to the crystalline state. Already realized and potential applications of such memory are associated with the use for this purpose of multicomponent alloys based on metals, semiconductors. However, single-component nanoparticles, including Si ones, are also of interest in view of the prospects for their use as nanoscale memory units. In particular, possibility of creating such memory units is confirmed by the fact that the bulk phase of the amorphous silicon has an optical absorption coefficient which is by an order of magnitude greater than that of the crystalline, although, it is difficult to release this effect for an individual nanoparticle whose size does not exceed the wavelength of light. In this work, using molecular dynamics (MD) and the Stillinger-Weber potential, we studied the laws of melting and conditions of crystallization for silicon nanoparticles containing up to 100,000 atoms. It has been shown that upon cooling a silicon nanodroplet at a rate of 0.2 TK/s and higher rates, its transition into the amorphous state takes place, whereas single-component metal nanodroplets crystallize even at cooling rates of 1 TK/s. Upon subsequent heating of amorphous silicon nanoparticles containing more than 50,000 atoms, they crystallize in the definite temperature range 1300—1400 K. It is concluded that it is principally possible to create memory units based on the above phase transitions. The transition of a nanoparticle to the amorphous state is achieved by its melting and subsequent cooling to the room temperature at a rate of 0.2 TK/s, and switching to the crystalline state is achieved by heating it to 1300—1400 K at a rate of 0.2 TK/s and subsequent cooling. On the basis of results of MD experiments, a conclusion is made that there exist a minimal size of silicon nanoparticles, for which producing memory units based on the change of the phase state, is not possible. It was found that for the temperature change rate of 0.2 TK/s, the minimal size in question 12.4 nm that corresponds to 50,000 atoms.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>молекулярная динамика</kwd><kwd>потенциал Стиллинджера-Вебера</kwd><kwd>наночастицы кремния</kwd><kwd>элементы памяти на основе фазового перехода</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>molecular dynamics</kwd><kwd>Stillinger—Weber potential</kwd><kwd>silicon nanoparticles</kwd><kwd>memory elements based on phase transition</kwd></kwd-group><funding-group><funding-statement xml:lang="ru">Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (грант № 18-43-690001) и Минобрнауки РФ в рамках выполнения государственного задания в сфере научной деятельности.</funding-statement><funding-statement xml:lang="en">The work was financially supported by the Russian Foundation for Basic Research (Grant No. 18-43-690001) and the Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation within a state assignment in science.</funding-statement></funding-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Ищенко А. А., Фетисов Г. В., Асланов Л. А. Нанокремний: свойства, получение, применение, методы исследования и контроля. М.: ФИЗМАТЛИТ, 2011. 647 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Ischenko A. A., Fetisov G. V., Aslanov L. A. Nanokremniy: svoystva, polucheniye, primeneniye, metody issledovaniya i kontrolya [Nanosilicon: properties, preparation, application, research and control methods]. Moscow: FIZMATLIT, 2011, 647 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Таненбаум Э. Архитектура компьютера. СПб.: Питер, 2007. 848 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Tanenbaum A. S. Structured computer organization. Pearson Prentice Hall, 2006, 777 p.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Wuttig M., Yamada N. Phase-change materials for rewriteable data storage // Nature Mater. 2007. V. 6. P. 824—832. DOI: 10.1038/nmat2009</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Simpson R. E., Fons P., Kolobov A. V., Fukaya T., Krbal M., Yagi T., Tominaga J. Interfacial phase-change memory. Nature Nanotechnology, 2011, vol. 6, no. 8, pp. 501—505. DOI: 10.1038/nnano.2011.96</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Karpov I. V., Mitra M., Kau D., Spadini G., Kryukov Y. A., Karpov V. G. Evidence of field induced nucleation in phase change memory // Appl. Phys. Lett. 2008. V. 92. P. 173501. DOI: 10.1063/1.2917583</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Wuttig M., Yamada N. Phase-change materials for rewriteable data storage. Nature Mater, 2007, vol. 6, pp. 824—832. DOI: 10.1038/nmat2009</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Fons P., Osawa H., Kolobov A. V., Fukaya T., Suzuki M., Uruga T., Kawamura N., Tanida H., Tominaga J. Photoassisted amorphization of the phase-change memory alloy Ge2Sb2Te5 // Phys. Rev. B. 2010. V. 82, Iss. 4. P. 041203. DOI: 10.1103/physrevb.82.041203</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Karpov I. V., Mitra M., Kau D., Spadini G., Kryukov Y. A., Karpov V. G. Evidence of field induced nucleation in phase change memory. Appl. Phys. Lett., 2008, vol. 92, pp. 173501. DOI: 10.1063/1.2917583</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Makino K., Tominaga J., Hase M. Ultrafast optical manipulation of atomic arrangements in chalcogenide alloy memory materials // Optics Express. 2011. V. 19, Iss. 2. P. 1260—1270. DOI: 10.1364/oe.19.001260</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Fons P., Osawa H., Kolobov A. V., Fukaya T., Suzuki M., Uruga T., Kawamura N., Tanida H., Tominaga J. Photoassisted amorphization of the phase-change memory alloy Ge2Sb2Te5. Phys. Rev. B, 2010, vol. 82, no. 4, pp. 041203. DOI: 10.1103/physrevb.82.041203</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Kolobov A. V., Krbal M., Fons P., Tominaga J., Uruga T. Distortion triggered loss of long-range order in solids with bonding energy hierarchy // Nature Chem. 2011. V. 3. P. 311—316. DOI: 10.1038/nchem.1007</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Makino K., Tominaga J., Hase M. Ultrafast optical manipulation of atomic arrangements in chalcogenide alloy memory materials. Optics Express, 2011, vol. 19, no. 2, pp. 1260—1270. DOI: 10.1364/oe.19.001260</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Simpson R. E., Fons P., Kolobov A. V., Fukaya T., Krbal M., Yagi T., Tominaga J. Interfacial phase-change memory // Nature Nanotechnology. 2011. V. 6, N 8. P. 501—505. DOI: 10.1038/nnano.2011.96</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Kolobov A. V., Krbal M., Fons P., Tominaga J., Uruga T. Distortion triggered loss of long-range order in solids with bonding energy hierarchy. Nature Chem., 2011, vol. 3, pp. 311—316. DOI: 10.1038/nchem.1007</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Shportko K., Kremers S., Woda M., Lencer D., Robertson J., Wuttig M. Resonant bonding in crystalline phase-change materials // Nature Mater. 2008. V. 7. P. 653—658. DOI: 10.1038/nmat2226</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Shportko K., Kremers S., Woda M., Lencer D., Robertson J., Wuttig M. Resonant bonding in crystalline phase-change materials. Nature Mater., 2008, vol. 7, pp. 653—658. DOI: 10.1038/nmat2226</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Huang B., Robertson J. Bonding origin of optical contrast in phase-change memory materials // Phys. Rev. B. 2010. V. 81, Iss. 8. P. 081204R. DOI: 10.1103/physrevb.81.081204</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Huang B., Robertson J. Bonding origin of optical contrast in phase-change memory materials. Phys. Rev. B, 2010, vol. 81, no. 8, pp. 081204R. DOI: 10.1103/physrevb.81.081204</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Lankhorst M., Ketelaars B., Wolters R. Low-cost and nanoscale non-volatile memory concept for future silicon chips // Nature Mater. 2005. V. 4. P. 347—352. DOI: 10.1038/nmat1350</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Lankhorst M., Ketelaars B., Wolters R. Low-cost and nanoscale non-volatile memory concept for future silicon chips. Nature Mater., 2005, vol. 4, pp. 347—352. DOI: 10.1038/nmat1350</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Гафнер Ю. Я., Гафнер С. Л., Редель Л. В. Наноструктуры как материал для фазо-инверсной памяти // Физико-хими­ческие аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов: межвуз. сб. науч. тр. Тверь: Твер. гос. ун-т, 2018. Вып. 10. С. 210—218. DOI: 10.26456/pcascnn/2018.10.210</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Gafner Yu. Ya., Gafner S. L., Redel L. V. Nanostructures as a material for phase-inverse memory. Physical and chemical aspects of the study of clusters, nanostructures and nanomaterials: Interuniversity collection of proceedings. Tver: TSU, 2018, no. 10, pp. 210—218. (In Russ.). DOI: 10.26456/pcascnn/2018.10.210</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Bashkova D. A., Gafner Y. Y., Gafner S. L. On the prospects of using a phase transition in Ag nanoclusters for information recording processes // Письма о материалах. 2019. Т. 9, № 4. С. 382—385. DOI: 10.22226/2410-3535-2019-4-382-385</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Bashkova D. A., Gafner Y. Y., Gafner S. L. On the prospects of using a phase transition in Ag nanoclusters for information recording processes. Lett. Mater., 2019, vol. 9, no. 4, pp. 382—385. DOI: 10.22226/2410-3535-2019-4-382-385</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit14"><label>14</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Талызин И. В., Самсонов М. В., Васильев С. А., Пушкарь М. Ю., Дронников В. В., Самсонов В. М. Молекулярно-динамическое исследование размерной зависимости температуры плавления наночастиц кремния // Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов: межвуз. сб. науч. тр. Тверь: Твер. гос. ун-т, 2018. Вып. 10. С. 618—627. DOI: 10.26456/pcascnn/2018.10.618</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Talyzin I. V., Samsonov M. V., Vasilyev S. A., Pushkar M. Yu., Dronnikov V. V., Samsonov V. M. Molecular dynamics research of size dependence of the melting temperature of silicon nanoparticles. Physical and chemical aspects of the study of clusters, nanostructures and nanomaterials: Interuniversity collection of proceedings. Tver: TSU, 2018, no. 10, pp. 618—627. (In Russ.). DOI: 10.26456/pcascnn/2018.10.618</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit15"><label>15</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Талызин И. В., Самсонов В. М., Пушкарь М. Ю., Дронников В. В. Размерная зависимость температуры плавления наночастиц кремния: молекулярно-динамическое и термодинамическое моделирование // Физика и техника полупроводников. 2019. Т. 53, Вып. 7. C. 964—970. DOI: 10.21883/FTP.2019.07.47875.8927.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Talyzin I. V., Samsonov M. V., Samsonov V. M., Pushkar M. Yu., Dronnikov V. V. Size dependence of the melting point of silicon nanoparticles: molecular dynamics and thermodynamic simulation. Semiconductors, 2019, vol. 53, no. 7, pp. 947—953. DOI: 10.1134/S1063782619070236</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit16"><label>16</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Володин В. А., Качко А. С. Кристаллизация пленок аморфного гидрогенизированного кремния с применением фемтосекундных лазерных импульсов // Физика и техника полупроводников. 2011. Т. 45, Вып. 2. С. 268—273. URL: http://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/7353</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Volodin V. A., Kachko A. S. Crystallization of hydrogenated amorphous silicon films by exposure to femtosecond pulsed laser radiation. Semiconductors, 2011, vol. 45, no. 2, pp. 265—270. DOI: 10.1134/S1063782611020254</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit17"><label>17</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Корчагина Т. Т., Володин В. А., Попов В. А., Хорьков К. С., Герке М. Н. Формирование нанокристаллов кремния в пленке SiNx на лавсане с применением фемтосекундных импульсных обработок // Письма в ЖТФ. 2011. Т. 37, Вып. 13. С. 62—69. URL: https://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/14242</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Korchagina T., Volodin V. A., Popov A. A., Khorkov K. Formation of silicon nanocrystals in SiNx film on PET substrates using femtosecond laser pulses. Tech. Phys. Lett., 2011, vol. 37, no. 7, p. 622. DOI: 10.1134/S1063785011070091</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit18"><label>18</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Feynman R. P. There’s plenty of room at the bottom // Engineering and Science. 1960. V. 23, N 5. P. 22—36. DOI: 10.1007/s12045-011-0109-x</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Feynman R. P. There’s plenty of room at the bottom. Engineering and Science, 1960, vol. 23, no. 5, pp. 22—36. DOI: 10.1007/s12045-011-0109-x</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit19"><label>19</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Герасименко Н. Н., Пархоменко Ю. Н. Кремний — материал наноэлектроники. М.: Техносфера, 2007. 352 c.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Gerasimenko N. N., Parkhomenko Yu. N. Kremniy — material nanoelektroniki [Silicon is a material of nanoelectronics]. Moscow: Tekhnosfera, 2007, 352 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit20"><label>20</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Грибов Б. Г., Зиновьев К. В., Калашник О. Н., Герасименко Н. Н., Смирнов Д. И., Суханов В. Н., Кононов Н. Н., Дорофеев С. Г. Получение наночастиц кремния для использования в солнечных элементах // Известия вузов. Электроника. 2016. Т. 21, № 4. С. 316—324.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Gribov B. G., Zinov’ev K. V., Kalashnik O. N., Gerasimenko N. N., Smirnov D. I., Sukhanov V. N., Kononov N. N., Dorofeev S. G. Production of silicon nanoparticles for use in solar cells. Semiconductors, 2017, vol. 51, no. 13, pp. 1675—1680. DOI: 10.1134/s1063782617130085</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit21"><label>21</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Hofmeister H., Dutta J., Hofmann H. Atomic structure of amorphous nanosized silicon powders upon thermal treatment // Phys. Rev. B. V. 54, N 4, P.2856—2862. DOI:10.1103/physrevb.54.2856</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Hofmeister H., Dutta J., Hofmann H. Atomic structure of amorphous nanosized silicon powders upon thermal treatment. Phys. Rev. B, vol. 54, no. 4, pp. 2856—2862. DOI: 10.1103/physrevb.54.2856</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit22"><label>22</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">LAMMPS Molecular Dynamics Simulator. URL: http://lammps.sandia.gov/</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> LAMMPS Molecular Dynamics Simulator. URL: http://lammps.sandia.gov/</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit23"><label>23</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Stillinger F. H., Weber T. A. Computer simulation of local order in condensed phases of silicon // Phys. Rev. B. 1985. V. 31, N 8. P. 5262—5271. DOI: 10.1103/physrevb.31.5262</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Stillinger F. H., Weber T. A. Computer simulation of local order in condensed phases of silicon. Phys. Rev. B, 1985, vol. 31, no. 8, pp. 5262—5271. DOI: 10.1103/physrevb.31.5262</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit24"><label>24</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Nose S. A unified formulation of the constant temperature molecular dynamics methods // The Journal of Chemical Physics. 1984. V. 81, N 1. P. 511—519. DOI: 10.1063/1.447334</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Nose S. A unified formulation of the constant temperature molecular dynamics methods. The Journal of Chemical Physics, 1984, vol. 81, no. 1, pp. 511—519. DOI: 10.1063/1.447334</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit25"><label>25</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Физические величины: справочник. М.: Энергоатомиздат, 1991. 1232 с</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Fizicheskiye velichiny: spravochnik [Physical quantities]. Moscow: Energoatomizdat, 1991, 1232 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit26"><label>26</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самсонов В. М., Харечкин С. С., Гафнер С. Л., Редель Л. В., Гафнер Ю. Я. Молекулярно-динамическое исследование плавления и кристаллизации наночастиц // Кристаллография. 2009. Т. 54, № 3. С. 563—569.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Samsonov V. M., Kharechkin S. S., Gafner S. L., Redel’ L. V., Gafner Yu. Ya. Molecular dynamics study of the melting and crystallization of nanoparticles. Crystallogr. Rep., 2009, vol 54, pp. 526—531. DOI: 10.1134/S1063774509030250</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit27"><label>27</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самсонов В. М., Васильев С. А., Талызин И. В., Рыжков Ю. А. О причинах гистерезиса плавления и кристаллизации наночастиц // Письма в ЖЭТФ. 2016. Т. 103, № 2. С. 100—105. DOI: 10.7868/S0370274X16020041</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Samsonov V. M., Vasilyev S. A., Talyzin I. V., Ryzhkov Yu. A. On reasons for the hysteresis of melting and crystallization of nanoparticles. JETP Lett., 2016, vol. 103, pp. 94—99. DOI: 10.1134/S0021364016020119</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit28"><label>28</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самсонов В. М., Талызин И. В., Самсонов М. В. О влиянии скоростей нагрева и охлаждения на плавление и кристаллизацию металлических нанокластеров // Журнал технической физики. 2016. Т. 86, Вып. 6. С. 149—152. URL: https://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/43390</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Samsonov V. M., Talyzin I. V., Samsonov M. V. On the effect of heating and cooling rates on the melting and crystallization of metal nanoclusters. Technical Physics, 2016, vol. 61, pp. 946—949. DOI: 10.1134/S1063784216060207</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit29"><label>29</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Veprek S., Iqbal Z., Sarott F. A. A thermodynamic criterion of the crystalline-to-amorphous transition in silicon // Philosophical Magazine B. 1982. V. 45. P. 137—145. DOI: 10.1080/13642818208246392</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Veprek S., Iqbal Z., Sarott F.A. A thermodynamic criterion of the crystalline-to-amorphous transition in silicon. Philosophical Magazine B, 1982, vol. 45, pp. 137—145. DOI: 10.1080/13642818208246392</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit30"><label>30</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Полухин В. А., Ватолин Н. А. Моделирование аморфных металлов. М.: Наука, 1985. 288 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Polukhin V. A., Vatolin N. A. Modelirovaniye amorfnykh metallov [Modeling of amorphous metals]. Moscow: Nauka, 1985, 288 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit31"><label>31</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Попель С. И., Спиридонов М. А., Жукова Л. А. Атомное упорядочение в расплавленных и аморфных металлах (по данным электронографии). Екатеринбург: Изд-во УГТУ, 1997. 382 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Popel S. I., Spiridonov M. A., Zhukova L. A. Atomnoye uporyadocheniye v rasplavlennykh i amorfnykh metallakh (Po dannym elektronografii) [Atomic ordering in molten and amorphous metals (According to electron diffraction data)]. Yekaterinburg: Publishing House of the Ural State Technical University, 1997, 382 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit32"><label>32</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Судзуки К., Худзимори Х., Хасимото К. Аморфные металлы / Под ред. Ц. Масумото. М.: Металлургия, 1987. 328 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Suzuki K., Khudzimori H., Hashimoto K. Amorfnyye metally [Amorphous metals]. Moscow: Metallurgy, 1987, 328 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit33"><label>33</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Фалькевич Э. С., Пульнер Э. О., Червоный И. Ф., Шварцман Л. Я., Яркин Н. В., Салли И. В. Технология полупроводникового кремния. М.: Металлургия, 1992. 408 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en"> Falkevich E. S., Pulner E. O., Chervony I. F., Shvartsman L. Ya., Yarkin N. V., Sally I. V. Tekhnologiya poluprovodnikovogo kremniya [Semiconductor silicon technology]. Moscow: Metallurgy, 1992, 408 p. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
