<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">mateltech</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1609-3577</issn><issn pub-type="epub">2413-6387</issn><publisher><publisher-name>MISIS</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.17073/1609-3577-2022-4-323-336</article-id><article-id custom-type="edn" pub-id-type="custom">TEZNPS</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">mateltech-498</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Физические свойства и методы исследования</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>PHYSICAL CHARACTERISTICS AND THEIR STUDY</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Методы исследования дислокационной структуры полупроводниковых монокристаллов группы AIIIBV</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Methods of dislocation structure characterization in AIIIBV semiconductor single crystals</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-2580-1707</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Князев</surname><given-names>С. Н.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Knyazev</surname><given-names>S. N.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524</p><p>Князев Станислав Николаевич — канд. техн. наук, начальник лаборатории высокотемпературных полупроводниковых соединений АIIIВV</p></bio><bio xml:lang="en"><p>2-1 Elektrodnaya Str., Moscow 111524</p><p>Stanislav N. Knyazev — Cand. Sci. (Eng.), Head of the Laboratory of High-Temperature Semiconductor Compounds АIIIВV</p></bio><email xlink:type="simple">stnknyazev@rosatom.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-0339-2391</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Кудря</surname><given-names>А. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Kudrya</surname><given-names>A. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049</p><p>Кудря Александр Викторович — доктор техн. наук, профессор, заместитель заведующего кафедрой металловедения и физики прочности</p></bio><bio xml:lang="en"><p>4-1 Leninsky Ave., Moscow 119049</p><p>Aleksandr V. Kudrya — Dr. Sci. (Eng.), Professor, Deputy Head of the Department of Metal Science and Physics of Strength</p></bio><email xlink:type="simple">avkudrya@inbox.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-2"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-7869-7886</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Комаровский</surname><given-names>Н. Ю.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Komarovskiy</surname><given-names>N. Yu.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524;</p><p>Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049</p><p>Комаровский Никита Юрьевич — аспирант, стажер-исследователь</p><p> </p></bio><bio xml:lang="en"><p>2-1 Elektrodnaya Str., Moscow 111524;</p><p>4-1 Leninsky Ave., Moscow 119049</p><p>Nikita Yu. Komarovskiy — Postgraduate Student, Trainee Researcher</p></bio><email xlink:type="simple">nickkomarovskiy@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-3"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-1970-9867</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Пархоменко</surname><given-names>Ю. Н.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Parkhomenko</surname><given-names>Yu. N.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524</p><p>Пархоменко Юрий Николаевич — доктор физ.-мат. наук, научный руководитель</p></bio><bio xml:lang="en"><p>2-1 Elektrodnaya Str., Moscow 111524</p><p>Yuri N. Parkhomenko — Dr. Sci. (Phys.-Math.), Professor, Scientific Consultant</p></bio><email xlink:type="simple">parkhomenko.in@misis.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-2699-9524</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Молодцова</surname><given-names>Е. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Molodtsova</surname><given-names>E. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524</p><p>Молодцова Елена Владимировна — канд. техн. наук, ведущий научный сотрудник</p></bio><bio xml:lang="en"><p>2-1 Elektrodnaya Str., Moscow 111524</p><p>Elena V. Molodtsova — Cand. Sci. (Eng.), Leading Researcher</p></bio><email xlink:type="simple">evmol@bk.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><contrib-id contrib-id-type="orcid">https://orcid.org/0000-0002-3015-1235</contrib-id><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Ющук</surname><given-names>В. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Yushchuk</surname><given-names>V. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524</p><p>Ющук Вячеслав Васильевич — аспирант, стажер-исследователь</p></bio><bio xml:lang="en"><p>2-1 Elektrodnaya Str., Moscow 111524</p><p>Vyacheslav V. Yushchuk — Postgraduate Student, Trainee Researcher</p></bio><email xlink:type="simple">slava_yushchuk@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Federal State Research and Development Institute of Rare Metal Industry (Giredmet JSC)</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-2"><aff xml:lang="ru"><institution>Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>National University of Science and Technology MISiS</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-3"><aff xml:lang="ru"><institution>АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Federal State Research and Development Institute of Rare Metal Industry (Giredmet JSC); &#13;
National University of Science and Technology MISiS</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2022</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>11</day><month>01</month><year>2023</year></pub-date><volume>25</volume><issue>4</issue><fpage>323</fpage><lpage>336</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Князев С.Н., Кудря А.В., Комаровский Н.Ю., Пархоменко Ю.Н., Молодцова Е.В., Ющук В.В., 2023</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Князев С.Н., Кудря А.В., Комаровский Н.Ю., Пархоменко Ю.Н., Молодцова Е.В., Ющук В.В.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Knyazev S.N., Kudrya A.V., Komarovskiy N.Y., Parkhomenko Y.N., Molodtsova E.V., Yushchuk V.V.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://met.misis.ru/jour/article/view/498">https://met.misis.ru/jour/article/view/498</self-uri><abstract><p>Темпы развития современной электроники, помимо повышения спроса на полупроводниковые монокристаллы, приводят к возрастанию требований по их структурному совершенству. Плотность дислокаций и характер их распределения являются важнейшими характеристиками полупроводниковых монокристаллов, определяющими дальнейшую эффективность их применения в качестве элементов интегральных систем. В связи с этим изучение механизмов возникновения, скольжения и распределения дислокаций — одна из актуальных задач, которая ставит ученных перед выбором метода исследования. В данной работе приведен обзор современных методик исследования и подсчета плотности дислокаций в монокристаллах. Дан краткий анализ основных преимуществ и недостатков каждого метода, а также приведены экспериментальные результаты. Метод избирательного травления (световой оптической микроскопии) получил наибольшее распространения и в своем классическом варианте является очень эффективным при решении задач обнаружения дефектов, приводящих к браку, и оценки плотности дислокаций по числу ямок травления, пересчитанных на площадь поля зрения. С использованием цифровой световой микроскопии, за счет перехода от анализа изображений к матрице значений интенсивности отдельного пикселя и автоматизации процесса измерений, становится возможным количественный анализ по всему поперечному сечению монокристаллической пластины и анализ характера распределения структурных несовершенств. Метод рентгеновской дифракции традиционно используется для определения кристаллографической ориентации, но также позволяет оценить величину плотности дислокаций по уширению кривой качания в случае двухкристальной геометрии. Методы растровой электронной микроскопии во вторичных электронах и атомно-силовой микроскопии позволяют дифференцировать фигуры травления по природе их возникновения и детально изучить их геометрию.</p><p>Просвечивающая электронная микроскопия и метод наведенных токов позволяют получать микрофотографию отдельных дислокаций, но требуют трудоемкой предварительной подготовки экспериментальных образцов. Рентгеновская топография дает возможность работать с массивными образцами и также обладает высокой разрешающей способностью, но в связи с высокой энергоемкостью процесса измерений слабо применима в условиях производства.</p><p>Цифровая обработка изображений позволяет расширить спектр возможностей основных материаловедческих методов исследования дислокационной структуры и повысить объективность получаемых результатов.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The development pace of advanced electronics raises the demand for semiconductor single crystals and strengthens the requirements to their structural perfection. Dislocation density and distribution pattern are most important parameters of semiconductor single crystals which determine their performance as integrated circuit components. Therefore studies of the mechanisms of dislocation nucleation, slip and distribution are among the most important tasks which make researchers face the choice of suitable analytical methods. This work is an overview of advanced methods of studying and evaluating dislocation density in single crystals. Brief insight has been given on the main advantages and drawbacks of the methods overviewed and experimental data have been presented. The selective etching method (optical light microscopy) has become the most widely used one and in its conventional setup is quite efficient in the identification of scrap defects and in dislocation density evaluation by number of etch pits per vision area. Since the introduction of digital light microscopy and the related transfer from image analysis to pixel intensity matrices and measurement automation, it has become possible to implement quantitative characterization for the entire cross-section of single crystal wafers and analyze structural imperfection distribution pattern. X-ray diffraction is conventionally used for determination of crystallographic orientation but it also allows evaluating dislocation density by rocking curve broadening in double-crystal setup. Secondary electron scanning electron microscopy and atomic force microscopy allow differentiating etch patterns by origin and studying their geometry in detail. Transmission electron microscopy and induced current method allow obtaining micrographs of discrete dislocations but require labor-consuming preparation of experimental specimens. X-ray topography allows measuring bulky samples and also has high resolution but is hardly suitable for industry-wide application due to the high power consumption of measurements.Digital image processing broadens the applicability range of basic dislocation structure analytical methods in materials science and increases the authenticity of experimental results.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>полупроводниковые монокристаллы</kwd><kwd>материалы электроники</kwd><kwd>плотность дислокаций</kwd><kwd>световая цифровая микроскопия</kwd><kwd>рентгеновская и электронная микроскопия</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>semiconductor single crystals</kwd><kwd>electronics materials</kwd><kwd>dislocation density</kwd><kwd>digital light microscopy</kwd><kwd>X-ray and electron microscopy</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Горелик С.С., Дашевский М.Я. Материаловедение полупроводников и диэлектриков. М.: Металлургия; 1988. 575 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Gorelik S.S., Dashevsky M.Y. Materialovedenie poluprovodnikov i dielektrikov. Moscow: Metallurgy, 1988. 495 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Мильвидский М.Г., Освенский В.Б. Структурные дефекты в монокристаллах полупроводников. М.: Металлургия; 1984. 256 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Milvidskii M.G., Oswenskii V.B. Structural defects in monocrystals of semiconductors. Moscow: Metallurgy, 1984. 240 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Бережанский И.Р., Адарчин С.А., Косушкин В.Г. Влияние дислокаций на параметрические свойства полупроводниковых приборов. Электромагнитные волны и электронные системы. 2016; 21(10): 4–8.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Berezhansky I.R., Adarchin S. A., Kosushkin V. G. The influence of dislocations on parametric properties of semiconductor devices // Electromagnetic waves and electronic systems. - 2016. - Т. 21. - №. 10. - С. 4-8.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Бардсли У. Влияние дислокаций на электрические свойства полупроводников. Успехи физических наук. 1961; 73(1): 121–167.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Bardsley W. The Influence of Dislocations on Electrical Properties of Semiconductors // Proc. of Physical Sciences. - 1961. - Т. 73. - №. 1. - С. 121-167.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Травление полупроводников; пер. с англ.: сб. ст. М.: Мир; 1965. 382 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">S.N. Gorin Etching of semiconductors. - 1st ed. - M.: MIR, 1965. - 382 с.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Левченко Д.С., Теплова Т.Б., Югова Т.Г. Исследование дислокационной структуры монокристаллов арсенида галлия, используемых для создания приборов сверхскоростной микроэлектроники. В сб.: Материалы II Междунар. науч.-практ. конф. «Экономика и практический менеджмент в России и за рубежом». Коломна, 30 апреля 2015 г. Коломна: Коломенский ин-т (фил.) ФГБОУ ВПО «Московский гос. машиностроительный ун-т (МАМИ)»; 2015. С. 135–137.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Levchenko D. S., Teplova T. B., Ugova T. G. Study of dislocation structure of gallium arsenide monocrystals used to create ultrafast microelectronic devices // Economics and Practical Management in Russia and Abroad. - 2015. - С. 135-137.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Парфентьева И.Б., Пугачев Б.В., Павлов В.Ф., Козлова Ю.П., Князев С.Н., Югова Т.Г. Особенности формирования дислокационной структуры в монокристаллах арсенида галлия, полученных методом Чохральского. Кристаллография. 2017; 62(2): 259–263. https://doi.org/10.7868/S0023476117020205</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Parfent'eva I.B., Pugachev B.V., Pavlov V.F., Kozlova Yu.P., Knyazev S.N., Ugova T.G. Features of dislocation structure formation in gallium arsenide monocrystals obtained by Czochralski method // Crystallography. - 2017. - Т. 62. - №. 2. - С. 259-263.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Случинская И.А. Основы материаловедения и технологии полупроводников. М.: Мир; 2002. 376 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sluchinskaya I. A. Fundamentals of Materials Science and Technology of Semiconductors // Moscow. - 2002. - Т. 376.]</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Фанштейн С.М. Обработка поверхности полупроводниковых приборов. 2-е изд. перераб и доп. М.; Ленинград: Энергия; 1966. 256 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Fanstein S. M. Surface treatment of semiconductor devices //M.: Energia. - 1966</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Марков А.В., Мильвидский М.Г., Освенский В.Б. О роли дислокаций в формировании свойств монокристаллов полуизолирующего GaAs. Физика и техника полупроводников. 1986; 20(4): 634–640.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Markov A. V., Milvidsky M. G., Oswensky V. B. On the role of dislocations in forming the properties of GaAs semiconductor monocrystals //Physics and Technique of Semiconductors. - 1986. - Т. 20. - №. 4. - С. 634-640.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Мильвидский М.Г., Освенский В.Б. Структурные дефекты в эпитаксиальных слоях полупроводников. М.: Металлургия; 1985. 159 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Milvidsky M.G., Oswensky V. B. Structural defects in epitaxial layers of semiconductors. - Metallurgy, 1985.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Авров Д.Д., Лебедев А.О., Таиров Ю.М. Основные дефекты в слитках и эпитаксиальных слоях карбида кремния I. Дислокационная структура и морфологические дефекты. Обзор. Известия высших учебных заведений. Электроника. 2015; 20(3): 225–238.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Avrov D.D., Lebedev A.O., Tairov Yu.M. Main defects in ingots and epitaxial layers of silicon carbide. I. Dislocation structure and morphological defects. Review // Izvestia of higher educational institutions. Electronics. - 2015. - Т. 20. - №. 3. - С. 225-238</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Косушкин В.Г., Кожитов Л.В., Кожитов С.Л. Состояние и проблемы выращивания монокристаллов полупроводников высокой однородности. Известия Юго-Западного государственного университета. Серия: Техника и технологии. 2013; (1): 10–22.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Kosushkin V. G., Kozhitov L. V., Kozhitov S. L. State and problems of growing of monocrystals of semiconductors of high homogeneity (in Russian) // Izvestia of South-West State University. Series: Technique and Technology. - 2013. - №. 1. - С. 10-22.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit14"><label>14</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Кудря А.В., Соколовская Э.А., Скородумов С.В., Траченко В.А., Папина К.Б. Возможности цифровой световой микроскопии для объективной аттестации качества металлопродукции. Металловедение и термическая обработка металлов. 2018; (4(754)): 15–23.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Kudrya AV, Sokolovskaya EA, Skorodumov SV, Trachenko VA, Papina KB Possibilities of digital light microscopy for objective assessment of the quality of metal products // Metal Science and Heat Treatment of Metals. - 2018. - №. 4. - С. 15-23.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit15"><label>15</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Соколовская Э.А., Кудря А.В., Пережогин В.Ю., Танг В.Ф., Кодиров Д.Ф.У., Сергеев М.И. Возможности цифровизации измерений в металловедении для внесения в оценку структур и разрушения количественной меры. Металлург. 2022; (7): 48–57. https://doi.org/10.52351/00260827_2022_07_48</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokolovskaya E. A., Kudrya A.V., Perezhogin V.Y., Tang V.F., Kodirov D.F.U., Sergeev M.I. Founders: Metallurgizdat // Metallurg. - №. 7. - С. 48-57.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit16"><label>16</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Быков Ю.А., Карпухин С.Д. Растровая электронная микроскопия и рентгеноспектральный анализ. Аппаратура, принцип работы, применение; под ред. Ю.А. Быкова. М.: МГТУ им. Н.Э. Баумана; 2002. 30 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Bykov Y. A., Karpukhin S. D., Boichenko M. K. Raster electron microscopy and X-ray spectral analysis //Apparatus, principle of operation, application/YA Bykov, SD Karpukhin, MK Boichenko et al. Electron data. Moscow: Bauman Moscow State Technical University. - 2003.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit17"><label>17</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Говорков А.В., Поляков А.Я., Югова Т.Г., Смирнов Н.Б., Петров Е.А., Меженный М.В., Марков А.В., Ли И.-Х., Пиртон С.Дж. Идентификация дислокаций и их влияние на процессы рекомбинации носителей тока в нитриде галлия. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2007; (9): 18–24.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Govorkov A. V., Polyakov A.Y., Ugova T.G., Smirnov N.B., Petrov E.A., Mezeny M.V., Markov A.V., Lee I.-H., Pirton S.J. Dislocation Identification and Influence on Recombination Process of Current Carriers in Gallium Nitride //Surface. X-ray, Synchrotron and Neutron Surveys. - 2007. - №. 7. - С. 18-24.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit18"><label>18</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Кравчук К.С., Меженный М.В., Югова Т.Г. Определение типов дислокаций и их плотности в эпитаксиальных слоях GaN различной толщины с помощью методов оптической и атомно-силовой микроскопии. Кристаллография. 2012; 57(2): 325–330.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Kravchuk K. S., Mezhenyi M. V., Ugova T. G. Determination of dislocation types and their density in GaN epitaxial layers of different thickness by optical and atomic force microscopy methods // Crystallography. - 2012. - Т. 57. - №. 2. - С. 325-325.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit19"><label>19</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Суслов А.А., Чижик С.А. Сканирующие зондовые микроскопы (обзор). Материалы, технологии, инструменты. 1997; 2(3): 78–89. http://microtm.com/download/mti-spmreview.pdf</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Suslov A.A., Chizhik S.A. Scanning probe microscopes (review) // Materials, Technologies, Instruments - T.2 (1997), ¹ 3, P. 78-89</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit20"><label>20</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Комаровский Н.Ю., Ющук В.В., Биндюг Д.В., Богембаев Н.Р. Исследование градиента распределения дефектов в монокристаллических пластинах кремния и арсенида галлия с помощью рентгеновской топографии. Международный научно-исследовательский журнал. 2021; (4-1(106)): 26–31. https://doi.org/10.23670/IRJ.2021.106.4.004</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Komarovsky N.Y. et al. Studying of gradient distribution of defects in monocrystalline silicon and gallium arsenide wafers by means of X-ray topography // Int. - 2021. - №. 4-1 (106). - С. 26-31.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit21"><label>21</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Орлова Г.Ю., Калашникова И.И. Исследование морфологии и фазового состава высококонцентрированных и смешанных кристаллов для активных сред лазеров. В кн.: Труды XLVII науч. конф. Москва, 26–27 ноября 2004 г. Ч. V. М.: МФТИ; 2004. С. 65.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">G.Yu. Orlova, I.I. Kalashnikova. Study of morphology and phase composition of highly concentrated and mixed crystals for active laser media. // XLVI1 Scientific Conference "Modern Problems of Fundamental and Applied Sciences". 26 ¬ 27 November 2004ã. Proceedings of the conference. Part V. Moscow ¬ Dolgoprudny.: MIPT. 2004. с. 65</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit22"><label>22</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Князев С.Н., Комаровский Н.Ю., Чупраков В.А., Ющук В.В. Влияние технологических параметров на структурное совершенство монокристаллического арсенида галлия. В сб.: Междунар. науч. конф. «Современные материалы и передовые производственные технологии» (СМППТ-2021). Санкт-Петербург, 21–23 сентября 2021 г. СПб.: ФГОУ ВО «Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого»; 2021. С. 218–220.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Gorelik S.S., Rastorguev L.N., Skakov Yu. X-ray and electronographic analysis. M/Metallurgy. - 2002.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit23"><label>23</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Горелик С.С., Расторгуев Л.Н., Скаков Ю.А. Рентгенографический и электронографический анализ. 4-е изд. М.: Металлургия; 2002. 357 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">A. M. Samoilov, S. V. Belenko, B. A. Siradze, A. S. Toreev, A. I. Dontsov, I. V. Filonova Dislocation density in PbTe films grown on Si (100) and BaF2 (100) substrates by the modified "hot wall" method // Kondensirovannye sredy i mezhfaznye granitsy Condensed Matter and Interphases. - 2013. - Т. 15. - №. 3. - С. 322-331.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit24"><label>24</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самойлов А.М., Беленко С.В., Сирадзе Б.А., Тореев А.С., Донцов А.И., Филонова И.В. Плотность дислокаций в пленках PbTe, выращенных на подложках Si (100) и BaF2 (100) модифицированным методом «горячей стенки». Конденсированные среды и межфазные границы. 2013; 15(3): 322–331.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B.K. Tanner and M.A.Phil. X-ray Diffraction Topography Pergamon Press,Nev-Jork,1966,p.763.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit25"><label>25</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Tanner B.K., Phil M.A. X-ray diffraction topography. NY, USA: Pergamon Press; 1976. 174 p.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Umansky Y.S., X-ray diffraction of metals, Moscow, Metallurgy,1967, p.236.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit26"><label>26</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Уманский Я.С. Рентгенография металлов. М.: Металлургия; 1967. 236 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">A.Authier, Contrast of Dislocation images in X-ray Transmission Topography,Adv. X-ray Analysts,10,9-31,1967.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit27"><label>27</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Authier A. Contrast of dislocation images in X-ray transmission topography. Advances in X-ray Analysis. 1967; 10: 9–31. https://doi.org/10.1154/S0376030800004250</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Diffraction and Microscopic Methods in Material Science, edited by S.Amelinx, Moscow, Metallurgy,1984</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit28"><label>28</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Суворов Э.В. Физические основы экспериментальных методов исследования реальной структуры кристаллов. Черноголовка: ИФТТ РАН; 2021. 209 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Baruchel J., Hartwig J. J.Synchrotron Rad. (2002), 9, 107</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit29"><label>29</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Дифракционные и микроскопические методы в материаловедении; под ред. С. Амелинкса, Р. Геверса, Дж. Ван Ландё; пер. с англ. М.: Металлургия; 1984. 502 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Kniazev S.N., Komarovsky N.Yu., Chuprakov V.A., Yushchuk V.V. Effect of Technological Parameters on Structural Perfection of Monocrystalline Gallium Arsenide // Modern Materials and Advanced Manufacturing Technologies (SMPT-2021). - 2021. - С. 218-220.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit30"><label>30</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Baruchel J., Hartwig J.J., Rejmankova P. Present state and perspectives of synchrotron radiation diffraction imaging. Journal of Synchrotron Radiation. 2002; 9(Pt 3): 107–14. https://doi.org/10.1107/S0909049502004041</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Williams D. B., Carter C. B. The transmission electron microscope //Transmission electron microscopy. - Springer, Boston, MA, 1996. - С. 3-17.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit31"><label>31</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Williams D.B., Carter C.B. The transmission electron microscope. In: Transmission electron microscopy. Springer; 1996. P. 3–17.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Petlitsky A. N., Zhigulin D. V., Lanin V. L. Express control of elements of integrated circuits using scanning electron microscopy and induced current mode //Production of electronics. - 2020. - №. 1. - С. 98-102.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit32"><label>32</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Петлицкий А.Н., Жигулин Д.В., Ланин В.Л. Экспресс-контроль элементов интегральных схем с использованием растровой электронной микроскопии и режима наведенного тока. Производство электроники. 2020; (1): 98–102.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Milvidskii M. G., Oswenskii V. B. Structural defects in epitaxial layers of semiconductors. - Metallurgy, 1985.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit33"><label>33</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Вергелес П.С., Якимов Е.Б. Исследование ширины изображения дислокаций в режиме наведенного тока в пленках GaN и структурах на их основе. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2009; (1): 71–73.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Belnik S.A., Vergeles P.S., Schmidt N.M., Yakimov E.B. Defects with light contrast induced current mode in GaN-based light-emitting structures. // Surface. X-ray, synchrotron and neutron investigations. - 2007. - VOL. 7. - P. 34-37.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit34"><label>34</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Бельник С.А., Вергелес П.С., Шмидт Н.М., Якимов Е.Б. Дефекты со светлым контрастом в режиме наведенного тока в светоизлучающих структурах на основе GaN. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2007; 7: 34–37.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Computer vision [Electronic resource] / L. Shapiro, J. Stockman; transl. from English: BINOM. Laboratory of Knowledge, 2013. - 752 с</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit35"><label>35</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Шапиро Л., Стокман Дж. Компьютерное зрение; пер. с англ. М.: БИНОМ. Лаборатория знаний; 2013. 752 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Samoilov A. N., Shevchenko I. V. Development of methods of isolation of binarized fragments of semiconductor wafer etching pits //Technological Audit and Production Reserves. - 2016. - Т. 3. - №. 1 (29). - С. 60-68.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit36"><label>36</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самойлов А.Н., Шевченко И.В. Разработка методов выделения бинаризованных фрагментов ямок травления пластины полупроводника. Технологический аудит и резервы производства. 2016; 3(1(29)): 60–68. https://doi.org/10.15587/2312-8372.2016.71988</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Samoilov A. N., Shevchenko I. V. Approaches to identification of dislocation contour fragments on the plate of monocrystal semiconductor. - 2019.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit37"><label>37</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Самойлов А.Н., Шевченко И.В. Подходы к идентификации фрагментов контура дислокации на пластине монокристалла полупроводника. Автоматизацiя та комп'ютерно-iнтегрованi технологiї. 2019; 1: 115–120. https://doi.org/10.15589/znp2019.1(475).16; https://scholar.archive.org/work/ubpjpgl4orekvhkur4qq6mvoai/access/wayback/http://znp.nuos.mk.ua/archives/2019/1/18.pdf</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Самойлов А.Н., Шевченко И.В. Подходы к идентификации фрагментов контура дислокации на пластине монокристалла полупроводника. Автоматизацiя та комп'ютерно-iнтегрованi технологiї. 2019; 1: 115–120. https://doi.org/10.15589/znp2019.1(475).16; https://scholar.archive.org/work/ubpjpgl4orekvhkur4qq6mvoai/access/wayback/http://znp.nuos.mk.ua/archives/2019/1/18.pdf</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
