<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">mateltech</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1609-3577</issn><issn pub-type="epub">2413-6387</issn><publisher><publisher-name>MISIS</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.17073/1609-3577-2012-4-8-11</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">mateltech-50</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Материаловедение и технология. Полупроводники</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY. SEMICONDUCTORS</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>РАССЛОЕНИЕ ТВЕРДОГО РАСТВОРА GeSi НА ПОДЛОЖКАХ GaAs И Si</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Layering of GeSi solid solution on the GaAs and Si substrates</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Венгер</surname><given-names>Е. Ф.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Venger</surname><given-names>E. F.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>чл.−кор. НАН Украины заведующий отдела, Институт физики полупроводни-ков им. В. Е. Лашкарёва НАН Украины, Украина, 03028, г. Киев, просп. Науки, д. 41.</p></bio><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Матвеева</surname><given-names>Л. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Matveeva</surname><given-names>L. A.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>профессор, главный научный сотрудник, Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, Украина, 03028, г. Киев, просп. Науки, д. 41</p></bio><email xlink:type="simple">matveeva@isp.kiev.ua</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Нелюба</surname><given-names>П. Л.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Nelyuba</surname><given-names>P. L.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>научный сотрудник, Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, Украина, 03028, г. Киев, просп. Науки, д. 41.</p></bio><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева Национальной академии наук Украины</institution><country>Украина</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>V. Lashkarov Institute of Semiconductor Physics, the National Academy of Science of Ukraine</institution><country>Ukraine</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2012</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>15</day><month>03</month><year>2015</year></pub-date><volume>0</volume><issue>4</issue><fpage>8</fpage><lpage>11</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Венгер Е.Ф., Матвеева Л.А., Нелюба П.Л., 2015</copyright-statement><copyright-year>2015</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Венгер Е.Ф., Матвеева Л.А., Нелюба П.Л.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Venger E.F., Matveeva L.A., Nelyuba P.L.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://met.misis.ru/jour/article/view/50">https://met.misis.ru/jour/article/view/50</self-uri><abstract><p>Изучены электронные, оптические и механические свойства гетеросистем Ge1−xSix на подложках GaAs (х = 0÷0,04) и Si (х = 0,75). Исследования проводили с помощью модуляционной спектроскопии электроотражения света для пленок и подложек, классической спектроскопии в области собственного поглощения пленок, измерения кривизны гетеросистем для определения знака и величины внутренних механических напряжений в них. Установлено изменение состава твердогo раствора с образованием новых структур как в процессе осаждения пленок, так и под влиянием γ−облучения. Найдена возможность уменьшения внутренних механических напряжений и улучшения электронных параметров пленки и подложки на границе раздела, а также получения гетеросистем с твердым раствором без деформации изгиба.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The electronic, optical and mechanical properties of heterosystems with Ge1−xSix solid solution films on the GaAs(x = 0–0.04) and Si (x = 0.75) substrates have been studied. We used electroreflectance modulation spectroscopy for the films and the substrates, classical spectroscopy in the intrinsic absorption region of the films and mechanical stress measurements in the films and in the substrate. We show that the Ge1−xSix films can change composition with the formation of other solid solution structures both during film depositionand under γ−irradiation. There is a possibility to reduce the mechanical stresses, to improve the electronic parameters of the films and the substrates at the interface, and to produce heterosystems without bending deformation.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>гетероструктуры</kwd><kwd>твердые растворы GeSi</kwd><kwd>γ−облучение</kwd><kwd>элетроотражение</kwd><kwd>релаксация механических напряжений</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>heterostructures</kwd><kwd>GeSi solid solution</kwd><kwd>γ−irradiation</kwd><kwd>electroreflectance</kwd><kwd>mechanical stresses relaxation</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Конакова, Р. В. Влияние однородности твердого раствора Ge1−xSix на выход годных ЛПД−диодов / Р. В. Конакова, Л. А. Матвеева, Ю. А. Тхорик // Материалы VI координационного совещания по исследованию и применению сплавов кремний—германий − Тбилиси, 1986. − С. 84.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Конакова, Р. В. Влияние однородности твердого раствора Ge1−xSix на выход годных ЛПД−диодов / Р. В. Конакова, Л. А. Матвеева, Ю. А. Тхорик // Материалы VI координационного совещания по исследованию и применению сплавов кремний—германий − Тбилиси, 1986. − С. 84.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Кардона, M. Модуляционная спектроскопия / M. Кардона − М. : Мир, 1972. − С. 100.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Кардона, M. Модуляционная спектроскопия / M. Кардона − М. : Мир, 1972. − С. 100.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Тягай, В. А. Электроотражение света в полупроводниках / В. А. Тягай, О. В. Снитко − Киев: Наукова думка, 1990. − С. 174.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Тягай, В. А. Электроотражение света в полупроводниках / В. А. Тягай, О. В. Снитко − Киев: Наукова думка, 1990. − С. 174.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Aspnes, D. E. Third−derivate modulation spectroscopy with low−field electroreflectance / D. E. Aspnes // Surf. Sci. − 1973. − V. 28. − P. 418—442.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Aspnes, D. E. Third−derivate modulation spectroscopy with low−field electroreflectance / D. E. Aspnes // Surf. Sci. − 1973. − V. 28. − P. 418—442.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Гофман, Р. У. Физика тонких пленок / Р. У. Гофман − М. : Мир, 1968. − Т. III. − С. 239.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Гофман, Р. У. Физика тонких пленок / Р. У. Гофман − М. : Мир, 1968. − Т. III. − С. 239.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Панков, Ж. Оптические процессы в полупроводниках / Ж. Панков − М. : Мир, 1973. − Приложение II. − С. 436.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Панков, Ж. Оптические процессы в полупроводниках / Ж. Панков − М. : Мир, 1973. − Приложение II. − С. 436.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Holiney, R. Yu. Investigation of the undersurface damaged layers in silicon wafers / R. Yu. Holiney, L. A. Matveeva, E. F. Venger // Semiconductor phys., quantum electronics and optoelectronics. − 1999. − V. 2, N 4. − P. 10—12.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Holiney, R. Yu. Investigation of the undersurface damaged layers in silicon wafers / R. Yu. Holiney, L. A. Matveeva, E. F. Venger // Semiconductor phys., quantum electronics and optoelectronics. − 1999. − V. 2, N 4. − P. 10—12.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Венгер, Е. Ф. Оптические свойства и энергетический спектр гетеросистемы SixGe1−x/GaAs / Е. Ф. Венгер, Л. А. Матвеева // Неорган. материалы. − 1997. − Т. 33, вып. 2. − С. 153—157.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Венгер, Е. Ф. Оптические свойства и энергетический спектр гетеросистемы SixGe1−x/GaAs / Е. Ф. Венгер, Л. А. Матвеева // Неорган. материалы. − 1997. − Т. 33, вып. 2. − С. 153—157.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
