<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">mateltech</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1609-3577</issn><issn pub-type="epub">2413-6387</issn><publisher><publisher-name>MISIS</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.17073/1609-3577-2013-4-3-8</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">mateltech-81</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Материаловедение и технология. Полупроводники</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY. SEMICONDUCTORS</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>ИССЛЕДОВАНИЕ СТРУКТУРЫ КРУПНОГАБАРИТНЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ АНТИМОНИДА ГАЛЛИЯ, ВЫРАЩЕННЫХ МЕТОДОМ ЧОХРАЛЬСКОГО В КРИСТАЛЛОГРАФИЧЕСКОМ НАПРАВЛЕНИИ [100]</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>STRUCTURAL STUDIES OF LARGE [100]−ORIENTED CZOCHRALSKI GROWN GASB SINGLE CRYSTALS</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Ежлов</surname><given-names>В. С.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Ezhlov</surname><given-names>V. S.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>кандидат техн. наук, зав. НПК−2, ОАО «Гиредмет», 119017, г. Москва, Б. Толмачевский пер., д. 5, стр. 1</p></bio><email xlink:type="simple">ezhlov@yandex.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Мильвидская</surname><given-names>А. Г.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Milvidskaya</surname><given-names>A. G.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>кандидат техн. наук, зав. лабораторией, ОАО «Гиредмет», 119017, г. Москва, Б. Толмачевский пер., д. 5, стр. 1</p></bio><email xlink:type="simple">milvidskaya.a@giredmet.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Молодцова</surname><given-names>Е. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Molodtsova</surname><given-names>E. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>кандидат техн. наук, ведущий научный сотрудник, ОАО «Гиредмет», 119017, г. Москва, Б. Толмачевский пер., д. 5, стр. 1</p></bio><bio xml:lang="en"><p> </p></bio><email xlink:type="simple">milvidskaya.a@giredmet.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Меженный</surname><given-names>М. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Mezhennyi</surname><given-names>M. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>вед.инженер, ОАО «Оптрон», 105187, г. Москва, Щербаковская ул., д. 53</p></bio><email xlink:type="simple">mvmezh@gmail.com</email><xref ref-type="aff" rid="aff-2"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>ОАО «Гиредмет»</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>JSC Giredmet</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-2"><aff xml:lang="ru"><institution>ОАО «Оптрон»</institution><country>Россия</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>JSC Optron</institution><country>Russian Federation</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2013</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>15</day><month>03</month><year>2015</year></pub-date><volume>0</volume><issue>4</issue><fpage>13</fpage><lpage>17</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Ежлов В.С., Мильвидская А.Г., Молодцова Е.В., Меженный М.В., 2015</copyright-statement><copyright-year>2015</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Ежлов В.С., Мильвидская А.Г., Молодцова Е.В., Меженный М.В.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Ezhlov V.S., Milvidskaya A.G., Molodtsova E.V., Mezhennyi M.V.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://met.misis.ru/jour/article/view/81">https://met.misis.ru/jour/article/view/81</self-uri><abstract><p>Проведено исследование свойств нелегированных монокристаллов антимонида галлия  диаметром более 60 мм, выращенных методом Чохральского в кристаллографическом направлении [<xref ref-type="bibr" rid="cit100">100</xref>].  Установлено, что снижение плотности дислокаций в крупногабаритных нелегированных монокристаллах антимонида галлия может быть достигнуто как с использованием известных технологических приемов в процессе выращивания, так и с помощью легирования изовалентной примесью (индием). Показано, что введение в технологический процесс выдержки при температуре, близкой к температуре кристаллизации, на стадии выхода  кристалла на диаметр в течение 1 ч и термообработки в посткристаллизационном состоянии при температуре 650 оС в течение 3 ч позволяет достичь в нелегированных монокристаллах антимонида галлия диаметром ~60 мм значения плотности дислокаций (3—5) ⋅ 103  см−2. Установлено,  что образование дислокаций в крупногабаритных монокристаллах антимонида галлия  обусловлено двумя температурными диапазонами, о чем свидетельствует различная морфоло- гия следов дислокаций. Определены значения критических напряжений образования дислокаций в интервале температур 420—690 оС. Показано, что легирование изовалентной примесью (In до концентраций  (2—4)⋅ 1018 ат/см3) приводит к существенному увеличению критических напряжений образования дислокаций и, следовательно, снижению их средней плотности до (4—5) ⋅ 102  см−2, что открывает перспективу получения крупногабаритных малодислокационных монокристаллов антимонида галлия.  </p><p> </p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The properties of Chochralski grown [<xref ref-type="bibr" rid="cit100">100</xref>] undoped GaSb crystals with diameters &gt; 60 mm have been studied. We found that the dislocation density reduction in large undoped crystals can be achieved both by the well known technological approaches and by isovalent impurity (indium) doping. We show that the introduction of two additional annealing stages, one being close to the moment the crystal reaches the target diameter (the length of this stage is 1 hour, the temperature being close to the melting point) and the other being 3 h long post−growth annealing at 650 °C, reduces the dislocation density in ~60 mm diameter crystals to (3—5) · 103 cm−2. We found that dislocations in large GaSb crystals form in two distinct temperature ranges as evidenced by the difference in the morphology of the dislocation traces. The dislocation critical stresses were identified in the 420—690 °C temperature range. It is demonstrated that isovalent doping (In, concentration in the range (2—4) · 1018 cm−3 leads to a significant incr ase in dislocation critical stresses and, accordingly, to a drastic decrease in the average dislocation density to (4—5) · 102 cm−2. This opens new prospects for obtaining large low dislocation density GaSb crystals.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>антимонид галлия</kwd><kwd>монокристалл</kwd><kwd>метод Чохральского</kwd><kwd>дефекты</kwd><kwd>плотность дислокаций</kwd><kwd>легирование</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>gallium antimonide</kwd><kwd>single crysta</kwd></kwd-group><funding-group><funding-statement xml:lang="ru">Министерства образования и науки Российской Федерации</funding-statement></funding-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Hvostikov, V. P. Termofotoelektricheskie preobrazovateli teplovogo i koncentrirovannogo solnechnogo izlucheniya / V. P. Hvostikov, O. A. Hvostikova, P. Yu. Gazaryan, M. Z. Shvarc, V. D. Rumyancev, V. M. Andreev // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2004. − V. 38, Iss. 8. − P. 988—993.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Hvostikov, V. P. Termofotoelektricheskie preobrazovateli teplovogo i koncentrirovannogo solnechnogo izlucheniya / V. P. Hvostikov, O. A. Hvostikova, P. Yu. Gazaryan, M. Z. Shvarc, V. D. Rumyancev, V. M. Andreev // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2004. − V. 38, Iss. 8. − P. 988—993.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Levin, R. V. Termofotopreobrazovateli na osnove antimonida galliya / R. V. Levin, B. V. Pushnyi, V. P. Hvostikov, M. N. Mizerov, V. M. Andreev // Fotonika−2008: Tez. − Novosibirsk, 2008. − P. 86.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Levin, R. V. Termofotopreobrazovateli na osnove antimonida galliya / R. V. Levin, B. V. Pushnyi, V. P. Hvostikov, M. N. Mizerov, V. M. Andreev // Fotonika−2008: Tez. − Novosibirsk, 2008. − P. 86.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Danilova, T. N. Svetodiody na osnove tverdyh rastvorov GaSb dlya srednei infrakrasnoi oblasti spektra 1,6—4,4 mkm / T. N. Danilova, V. E. Zhurtanov, A. N. Imenkov, Yu. P Yakovlev. // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2005. − V. 39, Iss. 11. − P. 1281— 1308.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Danilova, T. N. Svetodiody na osnove tverdyh rastvorov GaSb dlya srednei infrakrasnoi oblasti spektra 1,6—4,4 mkm / T. N. Danilova, V. E. Zhurtanov, A. N. Imenkov, Yu. P Yakovlev. // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2005. − V. 39, Iss. 11. − P. 1281— 1308.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Murti, M. R. 1.7—1.9 μm InxGa1−xAs/InyAl1−yAs light−emitting diodes lattice−mismatched grown on GaAs / M. R. Murti, B. Grietens, C. Van Hoof, G. J. Borghs // J. Appl. Phys. − 1995. − V. 78, N 1. − P. 578—580.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Murti, M. R. 1.7—1.9 μm InxGa1−xAs/InyAl1−yAs light−emitting diodes lattice−mismatched grown on GaAs / M. R. Murti, B. Grietens, C. Van Hoof, G. J. Borghs // J. Appl. Phys. − 1995. − V. 78, N 1. − P. 578—580.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Alferov, Zh. I. Tendencii i perspektivy razvitiya solnechnoi energetiki / Zh. I. Alferov, V. M. Andreev, V. D. Rumyancev // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2004. − V. 38, Iss. 8. − P. 937—948.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Alferov, Zh. I. Tendencii i perspektivy razvitiya solnechnoi energetiki / Zh. I. Alferov, V. M. Andreev, V. D. Rumyancev // Fizika i tehnika poluprovodnikov. − 2004. − V. 38, Iss. 8. − P. 937—948.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Mil’vidskii, M. G. Fiziko−himicheskie osnovy polucheniya razlagayushihsya poluprovodnikovyh soedinenii / M. G. Mil’vidskii, O. V. Pelevin, B. A. Saharov. − M. : Metallurgiya, 1974. − 392 p.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Mil’vidskii, M. G. Fiziko−himicheskie osnovy polucheniya razlagayushihsya poluprovodnikovyh soedinenii / M. G. Mil’vidskii, O. V. Pelevin, B. A. Saharov. − M. : Metallurgiya, 1974. − 392 p.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Smirnov, V. M. Sobstvennye tochechnye defekty i mikrodefekty v monokristallah antimonida galliya / V. M. Smirnov, A. A. Kalinin, V. T. Bublik, A. G. Braginskaya // Kristallografiya. − 1986. − V. 31, N 3. − P. 345—349.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Smirnov, V. M. Sobstvennye tochechnye defekty i mikrodefekty v monokristallah antimonida galliya / V. M. Smirnov, A. A. Kalinin, V. T. Bublik, A. G. Braginskaya // Kristallografiya. − 1986. − V. 31, N 3. − P. 345—349.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Mezhennyi, M. V. Kriticheskie napryazheniya i temperaturnye diapazony obrazovaniya dislokacii v monokristallah fosfida indiya i antimonida galliya pri vyrashivanii iz rasplava / M. V. Mezhennyi, A. G. Braginskaya, S.S. Shifrin // Mater. 9−go sovesh. po polucheniyu profilirovannyh kristallov i izdelii sposobom Stepanova i ih primeneniyu v narodnom hozyaistve. − L., 1982. − P. 102.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Mezhennyi, M. V. Kriticheskie napryazheniya i temperaturnye diapazony obrazovaniya dislokacii v monokristallah fosfida indiya i antimonida galliya pri vyrashivanii iz rasplava / M. V. Mezhennyi, A. G. Braginskaya, S.S. Shifrin // Mater. 9−go sovesh. po polucheniyu profilirovannyh kristallov i izdelii sposobom Stepanova i ih primeneniyu v narodnom hozyaistve. − L., 1982. − P. 102.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
