Method of Determining Nondestructive Pulse Laser Annealing Modes for Dielectric and Semiconductor Wafers
https://doi.org/10.17073/1609-3577-2014-3-206-210
Abstract
Single−side heating of a wafer with a free surface by pulse laser annealing has been analyzed within a quasi-static uncoupled thermal elasticity problem. An analytical relationship has been obtained that can be used as a criterion of wafer thermal stability and helps determining nondestructive modes of pulse laser processing for dielectric and semiconductor wafers. A calculation model has been obtained in the assumption of temperature-independent thermophysical, mechanical and optical properties of the materials. An experimental verification of the adequacy of the calculation model has shown quite a satisfactory agreement between the calculation and experimental data.
About the Authors
A. F. Kovalenko
Peter the Great Strategic Missile Forces Military Academy, 9/5 Kitaygorodsky proezd, Moscow 103074, Russia
Russian Federation
Russian Federation
Dr. Sci. (Eng.), Profrssor
A. A. Vorobiev
Peter the Great Strategic Missile Forces Military Academy, 9/5 Kitaygorodsky proezd, Moscow 103074, Russia
Russian Federation
Russian Federation
Cand. Sci. (Eng.), Head of the Research Laboratory
References
1. Григорьянц, А. Г. Технологические процессы лазерной обработки / А. Г. Григорьянц, И. Н. Шиганов, А. И. Мисюров. − М. : Изд−во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2008. − 664 с.
2. Sarychev, A. Electrodynamics of metamaterials / A. Sarychev, V. Salaev. − NY: World Sci. Publ., 2007. − 247 p.
3. Stepanov, A. L. Resent research development in applied physics / A. L. Stepanov, D. E. Hole. − Kuala (India): Transworld rescarch network, 2002. − P. 1—26.
4. Wood, R. A. Annealing of ion implanted silver colloids in glass / R. A. Wood, P. D. Townsend, N. D. Skelland, D. E. Hole, J. Barton, C. N. Afonso // J. Appl. Phys. − 1993. − V. 74. − P. 5754—5757.
5. Коваленко, А. Ф. Определение неразрушающих режимов термообработки диэлектрических и полупроводниковых пластин / А. Ф. Коваленко // Изв. вузов. Материалы электрон. техники. − 2003. − No 2. − С. 39—42.
6. Коваленко, А. Ф. Неразрушающие режимы импульсного лазерного отжига стеклянных и керамических пластин / А. Ф. Коваленко // Стекло и керамика. − 2006. − No 7. − С. 31—33.
7. Бакеев, А. А. Исследование термоупругих напряжений, возникающих в поглощающем слое вещества под действием лазерного импульса / А. А. Бакеев, А. П. Соболев, В. И. Яковлев // ПМТФ. − 1982. − No 6. − С. 92—98.
8. Коваленко, А. Ф. Экспериментальная установка для исследования влияния параметров лазерного импульса на разрушение неметаллических материалов / А. Ф. Коваленко // Приборы и техника эксперимента. − 2004. − No 4. − С. 119—124.
9. Способ обработки неметаллических материалов. Пат. на изобретение. RUS 2211753. / В. М. Атаманюк, А. Ф. Коваленко, И. В. Левун, А. В. Федичев
10. Коваленко, А. Д. Основы термоупругости / А. Д. Коваленко. − Киев : Наукова думка, 1970. − 240 с.
11. Феодосьев,В.И.Сопротивлениематериалов/В.И.Феодосьев. − М. : Наука, 1986. − 512 с.
12. ГОСТ13659−88.Стеклооптическоебесцветное.Физико− химические характеристики. − М. : Изд−во стандартов, 1988. −48с.
13. Блистанов,А.А.Акустическиекристаллы.Справочник / А. А. Блистанов, В. С. Бондаренко, Н. В. Переломова, Ф. Н. Стрижевская, В. В. Чкалова, М. П. Шаскольская − М. : Наука, 1982. − 632 с.
14. ГОСТ15130−86.Стеклокварцевоеоптическое.−М.:Изд− во стандартов, 1986. − 34 с.
15. ГОСТ 9411−90. Стекло цветное оптическое. − М. : Изд−во стандартов, 1992. − 48 с.
Review
For citations:
Kovalenko A.F., Vorobiev A.A. Method of Determining Nondestructive Pulse Laser Annealing Modes for Dielectric and Semiconductor Wafers. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2014;(3):206-210. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2014-3-206-210
Views:
940
Email this article 