Preview

Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники

Расширенный поиск

Научный рецензируемый журнал "Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники"

Журнал «Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники» издается с 1998 г., публикует на русском языке оригинальные и обзорные (заказные) статьи и является одним из основных научно-технических журналов в области физики, материаловедения, а также развития наукоемких технологий микро- и наноэлектроники. На страницах журнала постоянно публикуются результаты научных исследований и обзоры по профильной тематике представителей ведущих научных школ России и других стран.

В состав редколлегии входят ведущие специалисты Российской Федерации в этих областях, а также ведущие зарубежные ученые, что позволяет на высоком уровне и с достаточной степенью объективности осуществлять отбор публикуемых статей по физическим и химическим проблемам современного материаловедения. Все публикуемые материалы проходят тщательную научную экспертизу, а затем утверждаются на заседаниях редколлегии журнала.

По решению ВАК Минобразования РФ журнал включен в «Перечень периодических и научно-технических изданий, выпускаемых в Российской Федерации, в которых рекомендуется публикация основных результатов диссертаций на соискание ученой степени доктора наук».

Журнал включен в полнотекстовую базу данных eLibrary.ru, индексируется в Российском индексе научного цитирования (РИНЦ), Реферативном журнале и Базе данных ВИНИТИ.

С 2013 г. опубликованным в журнале статьям присваивается DOI.

Журналу «Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники» присвоена категория К2 в соответствии с методикой, разработанной ВАК Минобрнауки (письмо от 06.12.2022 г. № 02-1198) на основе анализа Перечня рецензируемых научных изданий https://vak.minobrnauki.gov.ru/uploader/loader?type=19&name=92263438002&f=14239 (№ 1024).

 

Избранные статьи журнала «Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники» с 2015 по 2024 год переводились на английский язык и включались в журнал Modern Electronic Materials (издательская платформа ARPHA (PenSoft, Болгария)). Modern Electronic Materials, индексируется в Scopus (с июля 2023 г.), RSCI, РИНЦ, Chemical Abstracts, DOAJ, Altmetric, ASOS Indeks, BASE, British Library, Cabell's Directory, ChronosHub, CNKI, CrossRef, Dimensions, EBSCO Essentials, EBSCOhost, EZB, GALE Academic OneFile, GoOA, Google Scholar, iDiscover (University of Cambridge), JournalTOCs, LetPub, Library of Congress, LIVIVO, MIAR, NAVER, NAVIGA, OpenAIRE, OpenCitations, ProQuest, ProQuest Central, QOAM (Quality Open Access Market), ReadCube, ROAD, Scilit, Semantic Scholar, Sherpa/Romeo, SOLO (Search Oxford Libraries Online), Transpose, Ulrichsweb™, Unpaywall, WorldCat, ZDB, входит в "Белый список".

 

Журнал «Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники» зарегистрирован Федеральной службой по надзору в сфере связи, информационных технологий и массовых коммуникаций (Роскомнадзор) (ПИ № ФС 77-59522 от 23.10.2014), предыдущее свидетельство № 016108 от 15.05.1997 (Минпечати РФ).

Индекс по каталогам «Пресса России» и «Урал Пресс» 47215.

Текущий выпуск

Том 28, № 3 (2025)

Материаловедение и технология. Полупроводники

20
Аннотация

Исследованы особенности протекания токов в образцах полярного пьезоактивного среза модельного кристалла иодата лития α-LiIO3 с различными материалами токопроводящих покрытий и по различным схемам измерения под действием внешнего электрического поля. В качестве материалов токопроводящих покрытий были использованы индий (In) и серебро (Ag). Измерения температурных зависимостей токов проводились в диапазоне от 25 до 210 °С с приложением внешнего электрического поля 100В на аппаратном комплексе «СКИП» со специализированным программным обеспечением для фиксации токов «ИТКЗ-1.0», разработанным в аккредитованной лаборатории МУИЛ Полупроводниковых материалов и диэлектриков «Монокристаллы и заготовки на их основе» (НИТУ МИСИС). Исследуемые образцы предварительно не подвергались каким-либо стимулирующим внешним воздействиями. Получены графики температурных зависимостей токов в образцах с различными материалами токопроводящих покрытий и по различным схемам измерений. Установлено, что выбор материала токопроводящих покрытий, а также полярность установки образца в кристаллодержатель вносят свой вклад в величину и направление протекания токов. В образцах с In токопроводящими покрытиями воздействие внешнего поля усиливает токи, возникающие в кристалле, а в образцах с Ag токопроводящими покрытиями воздействие поля ослабляет их величины. Во время нагрева и охлаждения токи неоднократно меняют своё направление с отрицательного на положительное и наоборот. Полученные результаты демонстрируют сложный характер взаимодействия между материалами токопроводящих покрытий с поверхностями исследуемых образцов при приложении внешнего электрического поля и повышении температуры.

Моделирование процессов и материалов

27
Аннотация

На медицинском ускорителе «Прометеус» при энергии 30 МэВ был сконструирован смешанный вторичный пучок замедленных нейтронов и сканирующий пучок протонов для облучения опухоли в комбинированном режиме сканирующими протонами  и замедленными нейтронами. Пучок замедленных эпитепловых нейтронов  получают с помощью компактного источника нейтронов комбинированного (КИНК).  Конструкция и характеристики пучков на выходе установки КИНК полученные при моделировании на программе Geant 4 в варианте “малой установки”.

С помощью моделирования на программе Geant 4, сконструирован нейтронный канал и установка КИНК, выбрана наиболее эффективная бериллиевая мишень  и энергия протонного ускорителя 30 МэВ, при которой получена достаточная плотность потока нейтронов для данного вида комбинированной технологии лечения поверхностных опухолей. КИНК позволяет получить на выходе из канала пучок эпитпловых нейтронов с нужным спектром и плотностью.

Предложено усилить действие сканирующего по поверхности опухоли протонного пучка за счет дополнительного дозообразования от радиосенсибилизаторов на основе наночастиц золота.

Физические свойства и методы исследования

21
Аннотация

Пленки In2O3:Er были осаждены на подложку кремния с помощью ВЧ-магнетронного распыления-осаждения. При этом формируется твердый раствор ((In1-xErx)2O3). В исследуемой гетероструктуре: подложка-n-Si/пленка-In2O3:Er/контакт-ITO при пропускании тока наблюдается электролюминесценция эрбия на длине волны 1,534 мкм. Предложен механизм возбуждения атомов эрбия с помощью рекомбинации электрон-дырочных пар, когда электрон находится в зоне проводимости оксида индия, а дырка в проводящем канале посередине запрещенной зоны, обусловленном дефектными состояниями. Таким образом, энергия электрон-дырочных пар меньше ширины запрещенной зоны оксида индия и составляет 1,56 эВ. Тогда при рекомбинации электрон-дырочных пар сначала резонансно возбуждается третье возбужденное состояние иона Er3+ 4I9/2 (1,53 эВ). Затем происходит безизлучательная релаксация к первому возбужденному состоянию 4I13/2 (0,81 эВ) и далее переход в основное состояние 4I15/2 с испусканием фотона на длине волны 1,534 мкм.

Объявления

Еще объявления...


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.