Использование Оже-электронной спектроскопии и спектроскопии характерных потерь энергии электронов для комплексного анализа двумерных покрытий и процесса их роста
Аннотация
Об авторе
Н. И. ПлюснинРоссия
Плюснин Николай Инокентьевич
ул. Радио, д. 5, Владивосток, 690041, Россия
Список литературы
1. Fiori G., Bonaccorso F., Iannaccone G., Palacios T., Neumaier D., Seabaugh A., Banerjee S. K., Colombo L. Electronics based on two-dimensional materials // Nature Nanotechnology. 2014. V. 9. P. 768—779. DOI:10.1038/nnano.2014.207
2. Gruznev D. V., Zotov A. V., Saranin A. A. One-atom-layer compounds on silicon and germanium // Jpn. J. Appl. Phys. 2017. V. 56, N 8S1. P. 08LA01. DOI: 10.7567/JJAP.56.08LA01
3. Плюснин Н. И. Металлические нанопленки на монокристаллическом кремнии: рост, свойства и применения // Известия вузов. Материалы электронной техники. 2015. Т. 18, № 2. С. 81—94. DOI: 10.17073/1609-3577-2015-2-81-94
4. Plusnin N. I. Atomic-scale AES-EELS analysis of structure-phase state and growth mechanism of layered nanostructures // Advances in Materials Physics and Chemistry. 2016. V. 6, N. 7. P. 195—210. DOI: 10.4236/ampc.2016.67020
5. Methods and phenomena: their applications in science and technology. V. 1: Methods of surface analysis / Ed. by A. W. Czanderna. Amsterdam; Oxford; New York; Tokyo: Elsevier, 1975. 480 p. DOI: 10.1016/B978-0-444-41344-4.50004-5
6. Lüth H. Solid surfaces, interfaces and thin films. V. 4. Berlin; Heidelberg: Springer-Verlag, 2001. 589 p. DOI: 10.1007/978-3-662-04352-3
7. Topics in current physics. V. 4: Electron spectroscopy for surface analysis / Ed. by H. Ibach. Berlin; New York: Springer-Verlag, 1977. 255 p.
8. Brillson L. J. The structure and properties of metal-semiconductor interfaces // Surface Sci. Rep. 1982. V. 2, N 2. P. 123—326. DOI: 10.1016/0167-5729(82)90001-2
9. Palmberg P. W. Quantitative Auger electron spectroscopy using elemental sensitivity factors // J. Vacuum Science & Technology. 1976. V. 13, N 1. P. 214—218. DOI: 10.1116/1.568853
10. Practical surface analysis. Auger and x-ray photoelectron spectroscopy / Ed. by D. Briggs, M. P. Seah. Chichester; New York: John Wiley & Sons Ltd., 1983. 548 p.
11. Honig R. E. Surface and thin film analysis of semiconductor materials // Thin Solid Films. 1976. V. 31, Iss. 1–2. P. 89—122. DOI: 10.1016/0040-6090(76)90356-4
12. Briggs D., Grant J. T. Surface analysis by Auger and x-ray photoelectron spectroscopy. Chichester: IM Publications and Surface Spectra Limited, 2003. 840 p.
13. Transmission electron energy loss spectrometry in materials science and the EELS Atlas / Ed. by C. C. Ahn. Weinheim: Wiley-VCH, 2004. 457 p. DOI: 10.1002/3527605495
14. Howe J. M., Oleshko V. P. Application of valence electron energy-loss spectroscopy and plasmon energy mapping for determining material properties at the nanoscale // J. Electron Microscopy. 2004. V. 53, N 4. P. 339—351. DOI: 10.1093/jmicro/dfh044
15. Menyhard M., Konkol A., Gergely G., Barna A. Development in Auger depth profiling technique // J. Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 1994. V. 68, Iss. C. P. 653—657. DOI: 10.1016/0368-2048(94)80028-6
16. Паршин А. С., Александрова Г. А., Долбак А. Е., Пчеляков О. П., Ольшанецкий Б. З., Овчинников С. Г., Кущенков С. А. Спектроскопия характеристических потерь энергии отраженных электронов в тонких пленках системы FexSi1-x // Письма в журнал технической физики. 2008. Т. 34, Вып. 9. С. 41—48.
17. Lifshits V. G., Saranin A. A., Zotov A. V. Surface phases on silicon: preparation, structures, and properties. Chichester (UK): Wiley, 1994. 462 p.
18. Wiesendanger R. Scanning probe microscopy and spectroscopy: methods and applications. Cambridge: Cambridge University Press, 1994. 637 p.
19. Linsmeier Ch. Auger electron spectroscopy // Vacuum. 1994. V. 45, N 6–7. P. 673—690. DOI: 10.1016/0042-207X(94)90108-2
20. Moretti G. X-Ray photoelectron and auger electron spectroscopy // Handbook of Heterogeneous Catalysis. Pt 3. Characterization of Solid Catalysts. 3.2. Chemical Properties. 3.2.3. Valence States. Weinheim: Wiley-VCH Verlag, 2008. P. 1029—1039. DOI: 10.1002/9783527610044.hetcat0052
21. Egerton R. F. Electron energy-loss spectroscopy in the electron microscope. New York; Dordrecht; Heidelberg; London: Springer Science & Business Media, 2011. 491 p.
22. Лифшиц В. Г., Луняков Ю. В. Спектры ХПЭЭ поверхностных фаз на кремнии. Владивосток: Дальнаука, 2004. 314 c.
23. Plusnin N. I. Application of AES and EELS for surface/interface characterization // J. Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 2004. V. 137–140. P. 161—164. DOI: 10.1016/j.elspec.2004.02.091
24. Plusnin N. I., Milenin A. P., Iliyashenko B. M., Lifshits V. G. Elevated rate growth of nanolayers of Cr and CrSi2 on Si(111) // Phys. Low-Dim. Struct. 2002. V. 9–10. P. 129—146.
25. Plusnin N. I., Galkin N. G., Lifshits V. G., Lobachev S. A. Formation of interfaces and templates in the Si(111)-Cr system // Surf. Rev. Lett. 1995. V. 2, Iss. 4. P. 439—449. DOI: 10.1142/S0218625X9500039X
26. Plusnin N. I., Il’yashenko V. M., Kitan S. A., Krylov S. V. Formation of Co ultrathin films on Si(111): growth mechanisms, electronic structure and transport // Appl. Surf. Sci. 2007. V. 253, Iss. 17. P. 7225—7229. DOI: 10.1016/j.apsusc.2007.03.001
27. Плюснин Н. И., Ильященко В. М., Китань С. А., Тарима Н. А., Структурно-фазовые превращения на начальных стадиях конденсации меди на Si(001) // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2011. № 8. C. 29—40.
28. Плюснин Н. И., Ильященко В. М., Усачев П. А., Павлов В. В. Рост на подложке Si(100)2×1, структурные и магнитные свойства структур на основе нанослоев Fe, Co и Cu // Журн. техн. физики. 2015. Т. 85, Вып. 10. С. 87—93.
29. Wallart X., Zeng H. S., Nys J. P., Delmai G. Electron spectroscopy study of the Fe/Si (111) interface formation and reactivity upon annealing // Appl. Surf. Sci. 1992. V. 56–58, Pt 1. P. 427—433. DOI: 10.1016/0169-4332(92)90265-Y
30. Colavita E., De Crescenzi M., Papagno L., Scarmozzino R., Caputi L. S., RoseiR., Tosatti E. Single-particle and collective excitations in ferromagnetic iron from electron-energy-loss spectroscopy // Phys. Rev. B. 1982. V. 25. P. 2490—2502. DOI: 10.1103/PhysRevB.25.2490
Для цитирования:
Плюснин Н.И. Использование Оже-электронной спектроскопии и спектроскопии характерных потерь энергии электронов для комплексного анализа двумерных покрытий и процесса их роста. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2017;20(4):239-255. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2017-4-239-255
For citation:
Plyusnin N.I. The use of AES and EELS for complex analysis of two-dimensional coatings and their growth process. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2017;20(4):239-255. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2017-4-239-255