Preview

Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники

Расширенный поиск

ПРИМЕНЕНИЕ МЕТОДА IN SITU РЕНТГЕНОВСКОЙ РЕФЛЕКТОМЕТРИИ ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ

https://doi.org/10.17073/1609-3577-2013-1-35-37

Аннотация

В настоящее время особую значимость приобретают методы мониторинга, позволяющие измерять параметры пленочных структур непосредственно во время их формирования — in situ методы. Применение этих методов способствует получению пленок с заданными характеристиками, позволяя оперативно корректировать режимы технологического процесса. Рассмотрены возможности метода in situ рентгеновской рефлектометрии для определения параметров наноразмерных пленок в процессе их формирования. Приведены результаты экспериментов по магнетронному напылению наноразмерных пленок кремния и других материалов на кремниевые подложки.

Об авторах

И. С. Смирнов
Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ, 109028, г. Москва, Б. Трехсвятительский пер., д. 3
Россия
кандидат физ.−мат. наук, профессор


Е. Г. Новоселова
Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ, 109028, г. Москва, Б. Трехсвятительский пер., д. 3
Россия
кандидат физ.−мат. наук, доцент


А. А. Егоров
Московский институт электроники и математики НИУ ВШЭ, 109028, г. Москва, Б. Трехсвятительский пер., д. 3
Россия
аспирант


И. С. Монахов
«Научно−исследовательский институт перспективных материалов и технологий», 115054, г. Москва, М. Пионерская ул., д. 12
Россия
младший научный сотрудник, ФГБНУ



Список литературы

1. Новоселова, Е. Г. Материалы IV Междунар. науч. семинара «Современные методы анализа дифракционных данных» / Е. Г. Новоселова, И. С. Смирнов, М. Г. Тюрганов. – В. Новгород, 2008. – С. 150—152.

2. Мишетт, А. Оптика мягкого рентгеновского излучения / А. Мишетт. – М. : Мир, 1989. – 351 с.

3. Tolan, M. X-ray scattering from soft matter thin films. Material science and basic research. // M. Tolan / Springer tracts in modern physics. – 1999. – V. 148. – P. 197.

4. Виноградов, А. В. Зеркальная рентгеновская оптика / А. В. Виноградов, И. А. Брытов, А. Я. Грудский и др. – Л. : Машиностроение, 1989. – 463 с.

5. Белянин, А. Ф. Наноматериалы. IV. Тонкие пленки как наноструктурированные системы / А. Ф. Белянин, М. И. Самойлович. – М. : ЦНИТИ «Техномаш», 2008. – 256 с.


Рецензия

Для цитирования:


Смирнов И.С., Новоселова Е.Г., Егоров А.А., Монахов И.С. ПРИМЕНЕНИЕ МЕТОДА IN SITU РЕНТГЕНОВСКОЙ РЕФЛЕКТОМЕТРИИ ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2013;(1):35-37. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2013-1-35-37

For citation:


Smirnov I.S., Novoselova E.G., Egorov A.A., Monakhov I.S. APPLICATION OF IN SITU X–RAY REFLECTIVITY FOR DETERMINING PARAMETERS OF NANOSCALE SILICON FILMS. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2013;(1):35-37. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2013-1-35-37

Просмотров: 699


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)