ИССЛЕДОВАНИЕ ОДНОРОДНОСТИ ПОВЕРХНОСТНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК Ti, Al, Ni, Cr и Au НА КРЕМНИИ


https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-33-37

Полный текст:


Аннотация

Методом термического испарения в вакууме на пластины кремния КЭФ−20 с ориентацией (100), диаметром 100 мм нанесены наноразмерные пленки Ti, Al, Ni, Cr и Au. С помощью измерений толщины пленок и поверхностного электросопротивления четырехзондовым методом оценено значение и однородность распределения удельного электросопротивления металлических пленок. Показано, что удельное электросопротивление таких пленок заметно превышает этот параметр для объемных материалов. Наблюдаемое увеличение поверхностного сопротивления на краях пленки связано как с уменьшением толщины пленки, так и с ростом удельного электросопротивления материала пленки. Отработанные режимы использованы для получения металлических слоев на подложках
из нитрида галлия.


Об авторах

К. Д. Ванюхин
ИФЯЭ НИЯУ МИФИ
Россия

инженер, Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», 115409, г. Москва, Каширское ш., 31



С. П. Кобелева
ФГАОУ ВПО «Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС»
Россия

кандидат физ.−мат. наук, доцент, каф. ППЭ и ФПП, НИТУ «МИСиС», 119049,
г. Москва, Ленинский просп., д. 4



Ю. А. Концевой
ФГУП «НПП «Пульсар»
Россия

профессор, доктор хим. наук, главный научный сотрудник, ФГУП «НПП «Пульсар», 105187, г. Москва, Окружной пр−д, д. 27.



В. А. Курмачев
3ФГУП «НПП «Пульсар»
Россия

заместитель Генерального директора, ФГУП «НПП «Пульсар», 105187,
г. Москва, Окружной пр−д, д. 27



Л. А. Сейдман
ИФЯЭ НИЯУ МИФИ
Россия

кандидат техн. наук, старший научный сотрудник, зав. лабораторией, На-
циональный исследовательский ядерный университет «МИФИ», 115409, г. Москва, Каширское ш., 31



Список литературы

1. Куэй, Р. Электроника на основе нитрида галлия / Р. Куэй.− М. : Техносфера, 2011. − 592 с.

2. Васильев, А. Г. СВЧ−приборы и устройства на широкозонных полупроводниках / А. Г. Васильев, Ю. В. Колковский, Ю. А. Концевой − М. : Техносфера, 2011. − 416 с.

3. Васильев, А. Г. СВЧ−транзисторы на широкозонных полупроводниках : учеб. пособие / А. Г. Васильев, Ю. В. Колковский, Ю. А. Концевой − М. : Техносфера, 2011. − 256 с.

4. Кобелева, С. П. Методы измерения электрофизических параметров монокристаллического кремния / С. П. Кобелева // Заводская лаборатория. − 2007. − № 1. − С. 60—67.

5. Физические величины : справочник / Под. ред. И. С. Григорьева, Е. З. Мейлихова. − М. : Энергоатомиздат, 1991. − 1232 с.

6. Технология тонких пленок : справочник / под ред.Л. Майссела, Р. Глэнга. − М. : Советское радио, 1977. − Т. 2. −662 с.


Дополнительные файлы

Для цитирования: Ванюхин К.Д., Кобелева С.П., Концевой Ю.А., Курмачев В.А., Сейдман Л.А. ИССЛЕДОВАНИЕ ОДНОРОДНОСТИ ПОВЕРХНОСТНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК Ti, Al, Ni, Cr и Au НА КРЕМНИИ. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2012;(4):33-37. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-33-37

For citation: Vaniukhin K.D., Kobeleva S.P., Konzcevoy Y.A., Kurmatshev V.A., Seidman L.A. Investigation of Sheet Resistance Distribution of Ti, Al, Ni, Cr and Au Metal Films on Silicon Substrates. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2012;(4):33-37. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-33-37

Просмотров: 244

Обратные ссылки

  • Обратные ссылки не определены.


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)