Preview

Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники

Расширенный поиск

Физические и технологические причины возникновения канальной неоднородности в монокристаллах InSb, сильнолегированных Te

https://doi.org/10.17073/1609-3577j.met202312.571

Аннотация

Модернизированным методом Чохральского в кристаллографических направлениях [100], [111] и [112] выращены монокристаллы InSb, легированные теллуром. Исследовано развитие канальной неоднородности, обусловленное низкой энергией активации захвата атомов Te плоскостями с высокой ретикулярной плотностью {111} в процессе роста кристалла. На основе метода Холла показано, что электрофизические параметры (концентрация свободных носителей заряда и их подвижность) в области канала и вне ее отличаются друг от друга на 10 и 22 % соответственно. Показано, что помимо кристаллографического направления выращивания на развитие канальной неоднородности большое влияние оказывают подбор технологических условий (скорости вращения затравки, тигля с расплавом, его заглубления и др.), а также конструкция теплового узла ростовой печи. Выявлено, что для получения востребованных на рынке микроэлектроники пластин InSb (111) оптимальным технологическим решением является разработка режима выращивания монокристаллов, позволяющего обеспечить ранний выход канальной неоднородности на периферию. Показано, что путем добавления дополнительных экранов в тепловой узел ростовой печи, понижая таким образом осевой градиент на фронте кристаллизации, удается достичь выхода канала на диаметр монокристалла на 4 см раньше обратного конуса.

Об авторах

Н. Ю. Комаровский
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524;

Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049

Комаровский Никита Юрьевич — научный сотрудник



Ю. Н. Пархоменко
Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»
Россия

Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049

Пархоменко Юрий Николаевич — доктор физ.-мат. наук, профессор, научный руководитель, кафедра материаловедения полупроводников и диэлектриков



Е. В. Молодцова
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524

Молодцова Елена Владимировна — канд. техн. наук, ведущий научный сотрудник

 



Е. О. Журавлёв
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524;

Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049

Журавлёв Евгений Олегович — студент-практикант



В. А. Чупраков
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524

Чупраков Виктор Александрович — инженер 1-ой категории



Р. Ю. Козлов
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»; Национальный исследовательский технологический университет «МИСИС»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524;

Ленинский просп., д. 4, стр. 1, Москва, 119049

Козлов Роман Юрьевич — начальник лаборатории



С. Н. Князев
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524

Князев Станислав Николаевич — канд. техн. наук, начальник лаборатории высокотемпературных полупроводниковых соединений АIIIВV



А. Г. Белов
АО «Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности «Гиредмет»
Россия

Электродная ул., д. 2, стр. 1, Москва, 111524

Белов Александр Георгиевич — канд. физ.-мат. наук, ведущий научный сотрудник



Список литературы

1. Weiss E. Thirty years of HgCdTe technology in Israel. In: Proceed. сonf. SPIE Defense, Security, and Sensing. Orlando, Florida, United States. Vol. 7298. Infrared Technology and Applications XXXV; 2009: 72982W. https://doi.org/10.1117/12.818237

2. Gershon G., Albo A., Eylon M., Cohen O., Calahorra Z., Brumer M., Nitzani M., Avnon E., Aghion I., Kogan I., Ilan E., Tuito A., Ben Ezra M., Shkedy L. Large format InSb infrared detector with 10 μm pixels. In: Proceed. 6th Inter. symp. on optronics in defence and security. Optro. Paris, France. January 28, 2014; 2014: 2931891.

3. Алфимова Д.Л., Лунина М.Л., Лунин Л.С., Пащенко О.С., Пащенко А.С., Яценко А.Н. Влияние висмута на структурное совершенство упруго-напряженных эпитаксиальных слоев AlGaInSbBi, выращенных на подложках InSb. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2020; (8): 20—25. https://doi.org/10.31857/S1028096020080038

4. Ежлов В.С., Мильвидская А.Г., Молодцова Е.В., Колчина Г.П., Меженный М.В., Резник В.Я. Исследование свойств крупногабаритных монокристаллов антимонида индия, выращенных методом Чохральского в кристаллографическом направлении [100]. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2012; (2): 13—17. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-2-13-17

5. Кормилицина С.С., Молодцова Е.В., Комаровский Н.Ю., Козлов Р.Ю., Журавлев Е.О. Особенности роста монокристаллов антимонида индия в кристаллографических направлениях [100], [211], [111]. В: Сб. тезисов 2-й Междунар. науч.-практ. конф., посвященной памяти академика Н.П. Сажина «Редкие металлы и материалы на их основе: технологии, свойства и применение» («РЕДМЕТ-2022»). Москва, 23–25 ноября 2022 г. М.: Научные технологии; 2022. С. 166—168.

6. Нашельский А.Я. Технология полупроводниковых материалов. М.: Металлургия; 1987. 334 с.

7. Комаровский Н.Ю., Молодцова Е.В., Белов А.Г., Гришечкин М.Б., Козлов Р.Ю., Кормилицина С.С., Журавлев Е.О., Нестюркин М.С. Исследование монокристаллов антимонида индия, полученных модернизированным методом Чохральского в различных кристаллографических направлениях. Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2023; 89(8): 38—46. https://doi.org/10.26896/1028-6861-2023-89-8-38-46

8. Комаровский Н.Ю., Молодцова Е.В., Трофимов А.А., Кормилицина С.С., Улькаров В.А., Нестюркин М.С., Зареченская А.А., Цареградцев Д.О. Исследование зависимости прочностных характеристик монокристаллического InSb от кристаллографической ориентации и условий роста. Прикладная физика. 2023; (3): 63—72. https://doi.org/10.51368/1996-0948-2023-3-63-72

9. Dong J.T., Inbar H.S., Pendharkar M., Schijndel A.J., Young E.C., Dempsey C.P., Palmstrom C.J. Electronic structure of InSb (001), (110), and (111) B surfaces. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2023; 41(3): 032808. https://doi.org/10.1116/6.0002606

10. Merrell J.L., Gray N.W., Bolke J.G., Merrell A.N., Prax A.G., Demke J., Gossett N. Enabling on-axis InSb crystal growth for high-volume wafer production: characterizing and eliminating variation in electrical performance for IR focal plane array applications. In: Proceed. SPIE. Vol. 9819. Infrared technology and applications XLII; 2016: 981915. https://doi.org/10.1117/12.2223956

11. Gray N.W., Perez-Rubio V., Bolke J.G., Alexander W.B. Interface and facet control during Czochralski growth of (111) InSb crystals for cost reduction and yield improvement of IR focal plane array substrates. In: Proceed. SPIE. Vol. 9220. Infrared sensors, devices, and applications IV; 2014: 922003. https://doi.org/10.1117/12.2061973

12. Волков Д.А., Фистуль В.И. Топологическая оценка вероятности образования собственных точечных дефектов в кристаллах AIIIBV со структурой сфалерита. Физика и техника полупроводников. 1990; 24(3): 475—478.

13. Жарикова Е.В., Молодцова Е.В., Козлов Р.Ю., Завражин Д.А., Титоров В.В., Кормилицина С.С., Князев С.Н. Исследование влияния условий выращивания на структуру крупногабаритных монокристаллов антимонида индия, полученных методом Чохральского. В: Сб. материалов 5-го Междисциплинар. науч. форума с междунар. участием «Новые материалы и перспективные технологии». Москва, 30 октября – 01 ноября 2019 г. Т. II. М.: Ителлектуальные системы; 2019. С. 440—443.


Рецензия

Для цитирования:


Комаровский Н.Ю., Пархоменко Ю.Н., Молодцова Е.В., Журавлёв Е.О., Чупраков В.А., Козлов Р.Ю., Князев С.Н., Белов А.Г. Физические и технологические причины возникновения канальной неоднородности в монокристаллах InSb, сильнолегированных Te. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2024;27(1):85-95. https://doi.org/10.17073/1609-3577j.met202312.571

For citation:


Komarovskiy N.Yu., Parkhomenko Yu.N., Molodtsova E.V., Zhuravlev E.O., Chuprakov V.A., Kozlov R.Yu., Knyazev S.N., Belov A.G. Physical and technological causes of channel inhomogeneity in InSb single crystals heavily doped with Te. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2024;27(1):85-95. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577j.met202312.571

Просмотров: 423


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)