Полноэкранный режим

Для цитирования: Старков В.В., Гостева Е.А., Иржак Д.В., Рощупкин Д.В. Напряжения в пластинах кремния, возникающие в результате локального фотонного отжига. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2017;20(2):142-147. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2017-2-142-147

For citation: Starkov V.V., Gosteva E.A., Irzhak D.V., Roshchupkin D.V. Silicon wafer strain under local photonic annealing. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2017;20(2):142-147. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2017-2-142-147

Просмотров: 85

Обратные ссылки

  • Обратные ссылки не определены.


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)