Для цитирования:

Щербачев К.Д., Бублик В.Т., Воронова М.И. ВЛИЯНИЕ ФОТОВОЗБУЖДЕНИЯ IN SITU НА СТРУКТУРУ НАРУШЕННОГО СЛОЯ «КРЕМНИЙ–НА–ИЗОЛЯТОРЕ». Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2012;(3):68-71. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-3-68-71

For citation:

Shcherbachev K.D., Bublik V.T., Voronova M.I. Influence of in situ photoexcitation on the structure of a damaged layer in SOI. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2012;(3):68-71. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-3-68-71