Полноэкранный режим

Для цитирования: Комаров Ф.Ф., Комаров А.Ф., Миронов А.М., Заяц Г.М., Макаревич Ю.В., Мискевич С.А. МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ И БЫСТРЫХ ТЕРМООБРАБОТОК ПРИ ФОРМИРОВАНИИ АКТИВНЫХ ОБЛАСТЕЙ СУБМИКРОННЫХ И НАНОМЕТРОВЫХ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ НА КРЕМНИИ. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2012;(4):18-23. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-18-23

For citation: Komarov F.F., Komarov A.F., Mironov A.M., Zayats G.M., Makarevich Y.V., Miskevich S.A. Modeling of Ion Implantation and Rapid Thermal Treatments during the Formation of Active Regions of Submicron and Nanometer Silicon IС. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2012;(4):18-23. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-18-23

Просмотров: 292

Обратные ссылки

  • Обратные ссылки не определены.


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)