Полноэкранный режим

Для цитирования: Тыныштыкбаев К.Н., Рябикин Ю.А., Токмолдин С.Ж., Рахметов Б.А., Айтмукан Т. ВОДОРОДНО–ИНДУЦИРОВАННОЕ СКАЛЫВАНИЕ ПЛАСТИН КРЕМНИЯ С ПОМОЩЬЮ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ. Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2012;(4):40-44. https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-40-44

For citation: Tynyshtykbaev K.B., Ryabikin Y.A., Tokmoldin S.Z., Rakhmetov B.A., Aitmukan T. Hydrogen–Induced Cleavage of Silicon Wafers by Electrochemical Etching. Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering. 2012;(4):40-44. (In Russ.) https://doi.org/10.17073/1609-3577-2012-4-40-44

Просмотров: 207

Обратные ссылки

  • Обратные ссылки не определены.


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1609-3577 (Print)
ISSN 2413-6387 (Online)